無錫先為科技有限公司請求不公布姓名獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉無錫先為科技有限公司申請的專利一種成膜裝置及半導體處理設備獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN223693082U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-12-19發布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請號/專利號為：202423318280.9，技術領域涉及：H01L21/67；該實用新型一種成膜裝置及半導體處理設備是由請求不公布姓名設計研發完成，并于2024-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種成膜裝置及半導體處理設備在說明書摘要公布了：本申請公開了成膜裝置及半導體處理設備，屬于半導體技術領域。成膜裝置，包括：處理室、基座、進氣組件及多個載臺，處理室包括底壁、頂壁及側壁，頂壁、底壁與側壁共同圍成有反應腔；基座設置于反應腔內，并與底壁或頂壁連接；進氣組件包括進氣主體，進氣主體設置于側壁上，且具有一個進氣方向，進氣主體能沿進氣方向將外部氣體引入反應腔內，進氣方向平行于基座；多個載臺設置于基座上，多個載臺沿第一方向間隔排布，第一方向與進氣方向相交，在以進氣方向為投影方向的任一投影面上，每一載臺的投影不相交。通過設置多個載臺的排布方式，以使得多個襯底在反應腔內的氣流場中氣流環境趨于一致，提高多襯底的處理效率及反應均勻性。
本實用新型一種成膜裝置及半導體處理設備在權利要求書中公布了：1.一種成膜裝置，其特征在于，包括： 處理室10，具有反應腔100，所述處理室10包括底壁101、與所述底壁101相對的頂壁102及側壁103，所述頂壁102、所述底壁101與所述側壁103共同圍成有所述反應腔100； 基座20，設置于所述反應腔100內，并與所述底壁101或所述頂壁102連接； 進氣組件30，包括進氣主體300，所述進氣主體300設置于所述側壁103上，且具有一個進氣方向X，所述進氣主體300能沿所述進氣方向X將外部氣體引入所述反應腔100內，所述進氣方向X平行于所述基座20； 多個載臺40，設置于所述基座20上，多個所述載臺40沿第一方向Y間隔排布，所述第一方向Y與所述進氣方向X相交，在以所述進氣方向X為投影方向的任一投影面上，每一所述載臺40的投影不相交。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人無錫先為科技有限公司，其通訊地址為：214000 江蘇省無錫市新吳區新梅路58號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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