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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海華力微電子有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利PMOS管觸發(fā)雙向硅控整流器獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113903733B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-12-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202111151126.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D18/80；該發(fā)明授權(quán)PMOS管觸發(fā)雙向硅控整流器是由朱天志;黃冠群;陳昊瑜;邵華設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-09-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本PMOS管觸發(fā)雙向硅控整流器在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供了一種PMOS管觸發(fā)雙向硅控整流器，包括：襯底；深N阱，位于所述襯底上方；第一N阱、第一P阱、第二N阱、第二P阱及第三N阱，從左至右依次排列于所述深N阱上方；PMOS管，包括P型柵極及位于所述P型柵極兩側(cè)的P型源漏區(qū)；兩個(gè)N型摻雜區(qū)，分別位于所述第一P阱和所述第二P阱中；具有NMOS管的靜電脈沖偵測(cè)電路，具有控制端口及兩個(gè)電壓端口，每個(gè)所述電壓端口分別與對(duì)應(yīng)的所述P型源漏區(qū)及對(duì)應(yīng)的所述N型摻雜區(qū)電性連接，所述控制端口與所述P型柵極電性連接以向所述P型柵極輸出控制電壓控制所述PMOS管的通斷；本發(fā)明降低了雙向硅控整流器的觸發(fā)電壓，提高了其適用性。

本發(fā)明授權(quán)PMOS管觸發(fā)雙向硅控整流器在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種PMOS管觸發(fā)雙向硅控整流器，其特征在于，包括： 襯底； 深N阱，位于所述襯底上方； 第一N阱、第一P阱、第二N阱、第二P阱及第三N阱，從左至右依次排列于所述深N阱上方； PMOS管，包括P型柵極及位于所述P型柵極兩側(cè)的P型源漏區(qū)，所述P型柵極位于所述第二N阱上方，所述P型柵極兩側(cè)的P型源漏區(qū)分別位于所述第一P阱與所述第二N阱的交界處和所述第二N阱與所述第二P阱的交界處； 兩個(gè)N型摻雜區(qū)，分別位于所述第一P阱和所述第二P阱中，且每個(gè)所述N型摻雜區(qū)與對(duì)應(yīng)的所述P型源漏區(qū)通過(guò)溝槽隔離結(jié)構(gòu)隔離開(kāi)； 具有NMOS管的靜電脈沖偵測(cè)電路，具有控制端口及兩個(gè)電壓端口，每個(gè)所述電壓端口分別與對(duì)應(yīng)的所述P型源漏區(qū)及對(duì)應(yīng)的所述N型摻雜區(qū)電性連接，兩個(gè)所述電壓端口之間具有電壓差，所述控制端口與所述P型柵極電性連接以向所述P型柵極輸出控制電壓控制所述PMOS管的通斷； 其中，所述靜電脈沖偵測(cè)電路包括第一RC電路、第二RC電路、第一NMOS管及第二NMOS管，其中，所述第一RC電路包括串聯(lián)的第一電阻和第一電容，所述第二RC電路包括串聯(lián)的第二電阻和第二電容；所述第一NMOS管的柵極連接在所述第一電阻和所述第一電容之間，所述第二NMOS管的柵極連接在所述第二電阻和所述第二電容之間，所述第一NMOS管的漏極及所述第二NMOS管的漏極相連后構(gòu)成所述控制端口；所述第一電阻、所述第二電容及所述第一NMOS管的源極相連后構(gòu)成一個(gè)所述電壓端口；所述第一電容、所述第二電阻及所述第二NMOS管的源極相連后構(gòu)成另一個(gè)所述電壓端口。

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