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								      本公開提供一種基于區域選擇性原子層沉積的圖形制備方法，包括：在襯底上形成第一金屬增強層；在第一金屬增強層上形成具有光敏性的自組裝單分子層；在具有光敏性的自組裝單分子層上形成第二金屬增強層；利用深紫外光對具有光敏性的自組裝單分子層進行曝光并顯...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及涂覆和表面處理技術領域，公開了一種絕緣陶瓷軸承用高純氧化鋁熱噴涂粉的制備方法，包括選擇氧化鋁粉末，其平均顆粒大小在1到50微米之間，氧化鋁粉末能夠通過化學法或物理法制備，以確保其純度和粒徑分布符合要求，將步驟一中預先準備的氧化鋁粉...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種基于常規RF濺射的低溫高質量氮化硅薄膜制備方法，屬于薄膜材料制備技術領域。該制備方法包括以下步驟：步驟1、將基片預處理后固定在載物臺上；步驟2、將靶材固定在磁控濺射系統腔體內，之后抽真空；步驟3、加熱基底，使基底溫度為30℃...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提出的薄膜沉積裝置，包括：處理腔室，用于進行薄膜沉積；噴淋頭，設置在所述處理腔室的頂部，用于向所述處理腔室內供應工藝氣體；基板支撐組件，設置在所述噴淋頭的下方，所述基板支撐組件包括固定部和旋轉部，所述旋轉部的下表面與所述固定部的上表面...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及材料表面改性技術領域，且公開了一種在石墨基體上實現快速CVD碳化硅涂層的方法，該在石墨基體上實現快速CVD碳化硅涂層的方法，包括以下步驟：S1、石墨基體預處理，對石墨基體進行表面粗糙化處理，依次包括混合酸蝕刻和低溫等離子體活化；S...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種雙面鍍膜機，包括真空腔體，真空腔體內設置有用于釋放薄膜的放卷裝置和用于收卷完成鍍膜的收卷裝置；放卷裝置與收卷裝置的送膜路徑上設置有第一冷卻主鼓、牽引組件和第二冷卻主鼓，第一冷卻主鼓和第二冷卻主鼓的下方均設置有蒸鍍裝置，以...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種光伏焊帶風刀位置自動調節裝置及其工作方法，包括固定安裝在支架上的齒輪環倉和底環板，所述齒輪環倉和底環板之間等角度轉動安裝有若干個第一螺紋桿，所述第一螺紋桿上螺紋安裝有螺紋筒，且螺紋筒安裝在升降板內，若干個所述升降板等間距設置在...
								
            
							
            
							
						
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								      提供用任選地經摻雜的硅氧化物膜以填充具有中等深寬比且大關鍵尺寸的半導體襯底特征的低壓化學氣相沉積方法和裝置。用于沉積的前體包括具有至少一個大體積取代基的硅前體和氨基硅烷。該方法可額外包括周期性等離子體處理和/或蝕刻。
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種半導體設備的裝料方法。該半導體設備的裝料方法包括：在半導體設備的多個托盤內分別裝填物料，多個托盤內裝填的物料的尺寸范圍不同；其中，多個托盤沿第一方向依次堆疊于半導體設備的罐體內。
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及鋼管鍍鋅技術領域，公開了一種熱浸鍍鋅鋼管高上鋅量控制方法及系統。該方法包括：采用二次酸洗二次水洗預處理工藝徹底去除鋼管表面雜質和酸液殘留，通過溶劑在線處理和復合助鍍劑系統形成均勻鹽膜提升基體浸潤性，利用光譜儀實時監測并調控鋅液中鋁...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及半導體加工技術領域，更具體地說，涉及一種液態蒸發罐設備以及液態化學源輸送系統。本發明提供了一種液態源蒸發罐設備，包括蒸發罐罐體、補液組件以及超聲發生器：所述蒸發罐罐體，內部存儲液態化學源；所述補液組件，設置于所述蒸發罐罐體的底部，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種帶有多層納米涂層的刀具及其制備方法，刀具包括刀具基體和設置在刀具基體表面的多層納米涂層，所述多層納米涂層從內向外依次包括過渡層、功能層和保護層；所述功能層包括交替設置的耐磨層和潤滑層，所述功能層中的最上層和最下層為耐磨層。制...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種復合涂層、其制備方法及其在玻璃模壓模具中的應用。沿厚度方向，該復合涂層依次包括Cr層和C?Pt納米復合層；通過在基體表面依次沉積Cr層，在Cr層表面沉積C?Pt納米復合層，制得復合涂層。本發明顯著弱化甚至消除了復合涂層中團簇...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及傳熱元件制造的技術領域，具體涉及一種微型熱管自封閉水熱處理方法。微型熱管自封閉水熱處理方法包括：向微型熱管內注入水熱反應介質后，將所述微型熱管密封并進行加熱、保溫，以在所述微型熱管內進行水熱反應并在所述微型熱管內壁形成納米結構層。...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種硬質合金表面強結合力的類金剛石功能層的制備方法，真空變脈沖滲碳階段，將加工后的硬質合金刀具采用分段加熱的方式從室溫加熱到650~850°C，保溫至心表均溫后，再升溫至滲碳溫度950°C~1350°C；通入滲碳介質以變脈沖方式...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種微孔銅箔及其制備方法和應用，包括以下步驟：(1)將銅箔表面預處理；(2)在經過步驟(1)預處理的銅箔表面施鍍催化層；(3)將步驟(2)得到的銅箔置于化學鍍液中，沉積鎳合金層；(4)對鎳合金層進行化學氧化，再進行堿性蝕刻；(5...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種具有多模式紅外防偽效果的溫敏多層膜結構的制備方法，具體步驟如下：將硅片襯底洗凈后用吹干；在硅片襯底層上沉積Al作為金屬高反射層；然后在金屬高反層上沉積Si作為間隔層并退火處理；再在間隔層上沉積V2O5作為相變材料層，并退火處理...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種鋅鋁鎂鍍層鋼板用緩蝕劑及制備方法、復合保護膜，屬于金屬表面處理領域。以質量分數計，所述緩蝕劑的組分包括：溶質：0.1％～10％，溶劑90％～99.9％；其中，以質量份計，所述溶質的化學成分包括：噻唑類緩蝕劑30份～50份，聚...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及一種有機材料表面高導熱率金屬薄膜高精度激光刻蝕新方法。利用金屬材料中晶體缺陷、晶體大小、晶體取向決定晶格中原子的排布方式從而影響熱能通過聲子和電子的傳遞方式的原理，通過調控金屬材料的晶體結構，減少瞬時激光能量在金屬薄膜橫向的熱傳導...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于熱噴涂技術領域，涉及一種鈦合金球窩噴管的制備方法。本發明采用鈦合金環鍛件作為球窩噴管材料，通過固溶時效處理提升鈦合金強度和穩定性，在不改變球窩噴管結構設計情況下，結構重量降低40%，滿足火箭發動機輕量化的控制要求。采用爆炸噴涂制備...
								
            
							
            
							
						
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