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          五金工具產品及配附件制造技術
          • 本發明提供能夠掌握即將成膜前的基板與掩模的位置關系的基板對準裝置及成膜裝置。蒸鍍裝置(10)具備:真空槽(11),劃定收納基板(S)的收納空間(11S);掩模臺(23),在收納空間(11S)內保持掩模(M);紅外線相機(31),對從相對于基...
          • 本申請公開了一種承載裝置及半導體工藝設備,涉及半導體領域。一種承載裝置,包括:基座組件、多個懸浮軸組件和多個承載件;基座組件包括基座本體和多個轉接件,基座本體具有多個承載位和第一通孔;承載件位于承載位上方,且承載件面向承載位一側設有限位結構...
          • 本申請公開一種工藝腔室和半導體工藝設備,屬于半導體加工領域,所述工藝腔室包括腔室本體和加熱燈;所述腔室本體內設有承載裝置,所述腔室本體包括位于所述承載裝置上方和/或下方的透光部,所述加熱燈位于所述腔室本體外且位于設置有所述透光部的一側,所述...
          • 本發明公開了一種提高鋼材熱浸鍍鋅表面質量的預鍍液及其制備方法與應用,屬于熱浸鍍鋅技術領域,所述預鍍液的溶質包括金屬鹽60?95份、絡合劑1?30份以及表面活性劑1?10份。本發明提供的預鍍液能夠明顯改善鍍層質量,減少漏鍍現象,同時能夠抑制或...
          • 本實用新型公開了一種連續真空鍍膜裝置,屬于真空鍍膜技術領域,包括真空腔,所述真空腔內設有上固定筒、公自轉工件架和輸送架,輸送架設置于真空腔底部,所述輸送架上設有公自轉工件架,上固定筒設于輸送架上方,輸送架下方設有頂升旋轉機構,并與上固定筒位...
          • 本申請提供了一種氮化硅薄膜的沉積方法及薄膜,該方法包括步驟:S1:提供一硅晶圓并將其置于PECVD設備的真空腔室中,升溫至工藝溫度;S2:向真空腔室內通入硅源氣體和氮源氣體,通過控制沉積工藝參數,并通入高頻射頻功率以激發等離子體,以在硅晶圓...
          • 本實用新型公開了一種銅覆鋼線材熱浸錫裝置,包括加熱箱,加熱箱通過底部四角的支撐柱架裝在收集箱的內部,收集箱兩側端沿上裝有進線輥和出線輥,收集箱的內部設有位于加熱箱進線側和出線側的兩個壓線輥,進線輥、出線輥以及壓線輥結構相同,均在外壁設有一排...
          • 本申請涉及半導體加工設備的技術領域,尤其是涉及一種噴淋頭及薄膜沉積裝置,其包括頂蓋,頂蓋上設置有進氣孔;基座,基座上設置有水平的排氣部,排氣部上設置有若干第一排氣孔;調節板,調節板上設置有若干第二排氣孔,第一排氣孔與第二排氣孔一一對應設置;...
          • 本實用新型公開了一種磁控濺射鍍膜機的鍍膜夾具,涉及鍍膜夾具領域,包括轉動機構,轉動機構包括支撐棱柱,支撐棱柱上設置有角度調整機構,角度調整機構包括角度調整齒條,支撐棱柱上固定有延伸臂,延伸臂內一端轉動連接有第一齒輪,第一齒輪與角度調整齒條嚙...
          • 本發明一種化學氣相沉積爐用供氣系統及進氣方法,屬于化學氣相沉積設備領域;解決了爐體反應腔室內待沉積工件的沉積質量低、反應氣體利用率低的問題;技術方案:該系統包括氣源柜,氣源柜內裝配有快充進氣管路和多路進氣主管路,快充進氣管路和每路進氣主管路...
          • 本發明涉及真空蒸鍍設備技術領域,且公開了一種可快速更換蒸發舟的輔助裝置,包括底座和基座,還包括:電極分離機構,設置于基座上,用于驅動并推開正電極擋板,以在正負電極之間形成供蒸發舟裝配的間隙;頂升定位機構,設置于底座上,用于將蒸發舟頂升并穩定...
          • 本說明書實施例提供一種氣相沉積裝置,包括:沉積主體,沉積主體包括第一腔體、第二腔體以及第一側壁;第一腔體設于第二腔體內,第一腔體被構造為容納待沉積物體;第一側壁圍成第一腔體,第一側壁上設有多個通孔,多個通孔連通第一腔體和第二腔體;第一輸入管...
          • 本發明公開了一種多元熱阻蒸發設備,包括生長室以及設置于所述生長室上的抽真空裝置,所述生長室連接有氧氣源,所述生長室安裝有樣品臺、電子槍、蒸發源;所述樣品臺包括基片安置盤,所述基片安置盤與所述生長室轉動連接,所述基片安置盤上下分別設置有上加熱...
          • 本申請涉及一種耐濕度超低磨損類金剛石碳基摩擦副及應用。所述摩擦副的兩接觸表面分別為超硬四面體非晶碳膜和類金剛石碳基薄膜。通過優選具有含氫(C?H)或高sp3(C?C)無氫類金剛石碳基薄膜與超硬四面體非晶碳膜進行配副,在滑動接觸表面形成潤滑相...
          • 本發明涉及鍍鋅技術領域,且公開了一種高均勻性熱浸鍍鋅工藝,S1、將工件一與工件二浸泡在酸溶液中;S2、將工件一與工件二進行水洗,用清水沖洗工件;S3、將工件一與工件二浸入助鍍劑中;S4、將工件一與工件二浸入熔融的鋅液中;S5、將工件一與工件...
          • 本發明公開一種輔助張網裝置及張網方法,其包括:至少一個下壓部件,所述下壓部件為“回”型結構;主升降驅動裝置,用于驅動下壓部件下降和上升;下壓探針組,包括沿豎直方向設立的多個探針,各探針沿下壓部件的“回”型結構連接在下壓部件的底部;次升降裝置...
          • 本發明公開了一種行走式重型塔吊,包括塔架、塔臂、上回轉支座、上部豎向回轉支承、阻尼裝置、可移動配重、可移動配重控制單元和行走裝置,可移動配重可在包括平衡臂和起重臂的塔臂的上移動,上部豎向回轉支承與塔臂鉸軸連接,鉸軸軸線方向平行于地面且垂直于...
          • 本發明屬于膜層材料技術領域,提供了一種小應力滯后和大可恢復應變的TiNi/Ag多層膜及其制備方法。本發明的TiNi/Ag多層膜為周期設置的膜層單元;所述膜層單元為依次層疊設置的TiNi層(鈦的含量為48~52.5at.%)和Ag層;所述Ti...
          • 本申請屬于表面防護涂層技術領域,具體涉及一種多層涂層刀具及其制備方法,所述多層涂層刀具包括基體和通過化學氣相沉積方法形成于基體表面的多層涂層。多層涂層包括由z個周期涂層自內向外依次堆疊構成的結構層(1≤z≤5且z為整數);每個周期涂層均包含...
          • 本發明涉及表面處理領域,具體為一種球閥球體的表面處理工藝;該表面處理工藝包括:將球閥球體經過預處理,得到經預處理的球閥球體;將經預處理的球閥球體經過活化,得到經活化的球閥球體;配置化學鍍液,將經活化的球閥球體施鍍,得到經化學鍍的球閥球體;再...
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