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								      本發明涉及銑削設備領域，具體為一種模具鋼自動銑削加工設備及工藝，其包括：中部安裝座，其上轉動設置轉盤，轉盤能自轉和升降，轉盤上設置增高板；支撐架，設置在中部安裝座上，支撐架上設置有從上方壓住增高板上的模具鋼的下壓機構；銑削機構，其設置兩組且...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于塑料模具加工磨床技術領域，特別涉及一種塑料模具加工磨床，包括底板；所述底板的頂部設置有用于對塑料模具的胚料進行定位的傳送臺組件，所述傳送臺組件上活動套接有用于對塑料模具的胚料雕刻用的多角度鉆頭組件，通過傳送臺組件的用于將塑料模具的...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種豆制品加工前段黃豆制漿裝置，包括去殼破碎機構和碎豆加水機構；去殼破碎機構包括放料機構，放料機構出料口設置有第一提升輸送機、第一提升輸送機出料口設有初級破碎機，初級破碎機出料口設有螺旋輸送機，螺旋輸送機出料口設有分離機構，...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種樁基起重機安裝結構，包括樁基和安裝底座，安裝底座包括起重機安裝部和設置在起重機安裝部下方的樁基對接部，其中，起重機安裝部的上設置有用于固定起重機的固定開合機構，樁基對接部包括設置在安裝底座底部的固定插套節段，固定插套節段中...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種施工預制構件的吊裝定位裝置，屬于預制構件的吊裝定位技術領域，包括，承載機構，包括底座、所述限位組件包括固定連接在所述支架內側的第一銷管、設置在所述第一銷管內腔的銷軸，以及固定安裝在所述銷軸另一端的第二斜口管。本實用新型通過...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于微納加工技術領域，具體為光柵轉印技術，該光柵轉印技術的具體內容如下：將超薄透明玻璃放置于低溫等離子體處理設備中，設定處理功率為80?120W，處理時間為3?5分鐘，通過電子束光刻和高精度對準系統，以及旋轉角度調節機制，實現納米光柵...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種刀片和刀具，該刀片包括多塊刀體，各刀體相互連接，且呈中心軸對稱設置；刀體的內面向刀體的外面傾斜設置以使刀體的底面和內面的交接處形成有鉆孔加工刃，內面向外面傾斜設置以使刀體的側面和內面的交接處形成有銑削加工刃，鉆孔加工刃的刃部...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于高反射極紫外元件技術領域，提供了一種La/C/B4C極紫外多層膜反射鏡及其制備方法。本發明的La/C/B4C極紫外多層膜反射鏡，包括依次層疊設置在基底上的打底層和多周期La/C/B4C層；所述多周期La/C/B4C層包括若干個層疊...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種包括反應腔室、設置于反應腔室內的基座及預熱環，預熱環為無縫一體成型的圓環結構，預熱環包括：與反應腔室的下環件內壁匹配固定的下部圓頂集成部以及沿下部圓頂集成部向基座方向水平延伸的預熱部，下部圓頂集成部的曲率半徑與下環件的曲率半徑...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種自垂直陶瓷升液管轉運裝置，屬于反重力鑄造領域，用于陶瓷升液管轉運，包括升降架、旋轉座、操作架和夾爪，升降架上部安裝有連接桿，連接桿頂部配合連接有旋轉盤；旋轉座下部轉動配合連接旋轉盤，上部具有水平方向的穿孔；操作架包括支撐桿、支...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種用于外延爐厚膜生長的石英軸結構及其工藝的操作方法，包括由石英材料制成的軸體，軸體的一端用于連接驅動機構，另一端設有用于支撐晶圓基座的軸支架；其中，外延爐內設有用于頂升晶圓基座的圓柱形升降銷，軸支架上設有供升降銷貫穿并升降運動的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種多級存儲的基于AlScN薄膜的鐵電存儲器及其制備方法，該鐵電存儲器包括：下電極(1)、Al1?xScxN薄膜層(2)、Al1?yScyN薄膜層(3)和上電極(4)，其中，所述Al1?xScxN薄膜層(2)位于所述下電極(1)上...
								
            
							
            
							
						
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								      一種基于無金電極的紅外探測器芯片制備方法，涉及紅外探測技術領域，通過準備所需的待金屬化的紅外探測器晶片，將待金屬化的紅外探測器晶片濺射沉積無金電極膜層，通過設置濺射功率、氣體流量以及加熱溫度的參數在晶片表面沉積一定厚度的無金電極膜層，在剝離...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種硒氧化鉍和亞硒酸氧鉍二維圍柵單晶異質結構及制備方法和應用，涉及半導體材料技術領域。本發明制備方法包括如下步驟：S1.對基底進行高溫退火處理；S2.以預處理基底為生長基底，硒化鉍塊體和高純氧氣為原料，進行化學氣相沉積得到二維單晶...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種非單調晶粒尺寸梯度復合涂層及其制備方法和應用，包括在基底上從下往上依次設置的細晶層、粗晶層和過渡層，細晶層、粗晶層和過渡層中的晶粒均為柱狀晶，且細晶層中的晶粒徑向平均尺寸<100 nm，粗晶層中的晶粒徑向平均尺寸為220～50...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供了一種封閉式晶振片清潔的真空蒸鍍裝置。真空蒸鍍裝置包括工藝腔，以及與工藝腔相互連通的緩沖腔；工藝腔中設有第一晶振測試儀，用于檢測工藝腔中鍍制膜層的厚度；緩沖腔中設有第二晶振測試儀和清洗裝置，第二晶振測試儀用于與下限壽命的第一晶...
								
            
							
            
							
						
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								      一種利用等離子體增強化學氣相沉積低溫技術制備鉑基合金催化劑的方法，它涉及鉑基合金催化劑的制備方法，它是要解決現有的碳包覆制備鉑基合金催化劑存在碳層包覆不均勻、高溫煅燒過程催化劑的金屬顆粒易團聚的技術問題。本方法：一、多元醇還原法制備Pt/C...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種含石墨烯氮化硼異質結的高導熱高絕緣材料及制備方法，涉及導熱絕緣復合材料領域。該材料由石墨烯層與六方氮化硼層交替堆疊形成垂直異質結，總層數3?10層，晶格堆疊角度為0°或60°，面內熱導率≥1500W/mK，垂直熱導率≥50W...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種多阻態鐵電憶阻器及其制備方法，其中，該多阻態鐵電憶阻器包括從下至上依次層疊設置的底電極、鐵電層和頂電極，所述鐵電層包括至少兩層氮化鋁鈧薄膜，且在不同層所述氮化鋁鈧薄膜中，鈧原子相對于鋁原子的比例隨著層數從下至上而遞增。本發明通...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請提供了承載舟、電池及其制備方法。承載舟用于承載基片并置于沉積腔內，承載舟包括舟托本體和隔離擋板；舟托本體包括相對設置的舟托前板與舟托后板，沉積腔內的氣流自舟托前板指向舟托后板的排布方向流動；隔離擋板設于舟托前板面向舟托后板的一側，基片...
								
            
							
            
							
						
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