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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實用新型涉及電子連接線加工領域，具體涉及一種加工電子連接線用的鍍錫裝置，包括：加熱裝置和設置在其頂部的熔錫腔，加熱裝置的兩側(cè)分別連接有矩形框體，熔錫腔的上方設有可旋轉(zhuǎn)的U形安裝板組件，U形安裝板組件包括U形安裝板體，U形安裝板體內(nèi)腔的底部...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種堆疊式舟載具及管式PECVD設備，包括：絕緣連接座、第一舟載具和第二舟載具；所述絕緣連接座分別設置在第一舟載具和第二舟載具的兩端，以用于實現(xiàn)第一舟載具和第二舟載具沿豎直方向堆疊連接；所述第一舟載具和第二舟載具均采用碳纖維...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及溫度調(diào)控技術領域，特別是涉及一種熱鍍鋅智能溫度自適應調(diào)控裝置，用于解決現(xiàn)有鍍鋅裝置不易根據(jù)鍍件自動適配溫度的問題；該裝置包括爐體機構，爐體機構的上部設置有第一輸送機構和第二輸送機構，第二輸送機構包括兩種輸送狀態(tài)，在第一輸送狀態(tài)下，...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請?zhí)峁┮环N鋅管在鋅鍋上的引上磁輥，包括機架，包括入料端和出料端，在出料端設有鋅液回收槽，在鋅液回收槽上設有移動輥；磁力輥傳送機構，設置在機架上并臨近入料端設置，包括安裝架和設置在安裝架上的多排磁力輥和風機，風機的出風口朝向磁力輥設置；抓...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種微半球鍍膜治具，包括定位器、夾具，以及與夾具相連的驅(qū)動組件，定位器頂面開設有用于容置微半球的沉臺孔，沉臺孔內(nèi)具有與微半球的唇沿面配合的掩膜腔，微半球表面無需鍍膜的部分伸入掩膜腔以進行掩膜，夾具包括頂錐部，頂錐部從所述定位...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種金屬線材磷化處理設備，包括槽口朝上的磷化槽，所述磷化槽的上方設有由起吊設備控制在三維空間內(nèi)作自由移動的鋼卷吊鉤，鋼卷吊鉤具有作垂直上下延伸的縱吊臂、作水平左右或前后延伸的橫吊臂，所述磷化槽的內(nèi)槽底設有左輥架和右輥架，右輥...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及閥桿的氮化領域，尤其涉及一種避免閥桿氮化變形結構。所述避免閥桿氮化變形結構包括氮化爐、鋼絲繩、連接結構和調(diào)節(jié)結構，氮化爐內(nèi)部安裝有閥桿，閥桿頂端開設有通孔，氮化爐內(nèi)壁頂端固定連接有橫梁，鋼絲繩一端安裝在橫梁中部，另一端安裝在閥桿的...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及到加工設備技術領域，尤其涉及一種限位裝置、輸送設備及磁控濺射傳動裝置。該限位裝置包括：第一限位圈和第二限位圈，第一限位圈和第二限位圈用于套設在傳動桿上并分別設置于傳動輪的兩側(cè)，傳動輪用于固定套設于傳動桿上；第一限位圈面向傳動輪的一...
								
            
							
            
							
						
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								      根據(jù)本實用新型實施例的磁控濺射鍍膜裝置，包括：機架；真空罩，設在機架上，真空罩內(nèi)限定有真空腔；內(nèi)濺射陰極，外表面覆蓋有靶材，當磁控濺射鍍膜裝置位于第一狀態(tài)時，內(nèi)濺射陰極與真空罩相連以用于深入待鍍工件的腔體內(nèi)并通過磁控濺射對待鍍工件的內(nèi)壁面鍍...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種金屬板材及其制備方法與應用，屬于鋼板技術領域。該金屬板材包括金屬基板以及設置于金屬基板表面的復合納米結構層；復合納米結構層中同時含有納米級的定型結構和納米級的無定型結構，以原子百分比計，復合納米結構層中含有10at%~75a...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型屬于磁控濺射技術領域，公開了一種布氣裝置及鍍膜設備。本實用新型提出一種布氣裝置及鍍膜設備，其中，布氣裝置包括氣排組件，氣排組件包括至少兩個氣排段，氣排段上設置有多個出氣孔，氣體從出氣孔輸出并朝向靶材，采用分段式布氣能夠避免氣體集中...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜連續(xù)生產(chǎn)線，屬于鍍膜設備領域，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內(nèi)設有固定筒和傳輸?shù)鬃潭ㄍ苍O于真空鍍膜室頂部，傳輸?shù)鬃O于真空鍍膜室底部，真空鍍膜室底部還設有頂升旋轉(zhuǎn)部件，頂升旋轉(zhuǎn)部件與固定筒位置對應，公自轉(zhuǎn)工件架通...
								
            
							
            
							
						
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								      公開的示例涉及控制于襯底的特征上沉積的含硅膜的生長輪廓。一示例提供了一種執(zhí)行循環(huán)式化學氣相沉積(CVD)/蝕刻處理以控制在包含間隔結構的襯底上沉積的含硅膜的輪廓的方法。每個間隔結構包含頂部場區(qū)(top field)和一個或更多個側(cè)壁。該方法...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及蒸鍍技術領域，具體是一種半導體基底反射鏡的激光精準蒸鍍裝置，包括抽真空箱，所述抽真空箱的內(nèi)壁固定連接有第一隔熱間板，所述抽真空箱的內(nèi)壁固定連接有第二隔熱間板，所述抽真空箱的內(nèi)部底面固定連接有伺服電機，所述伺服電機的輸出端固定連接有...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種進氣爐門結構，包括爐門板，所述爐門板一側(cè)設有進氣組件，所述爐門板另一側(cè)通過彈性調(diào)節(jié)裝置連接有調(diào)節(jié)板，所述調(diào)節(jié)板連接有用于帶動調(diào)節(jié)板和爐門板移動的驅(qū)動裝置。本進氣爐門結構，反應氣體從進氣組件進氣，驅(qū)動裝置驅(qū)動爐門板移動，實...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，且公開了一種真空鍍膜設備，包括蒸發(fā)機構，蒸發(fā)機構頂端設置有鍍膜機構與鍍膜輔助機構，蒸發(fā)機構包括一個電控箱，電控箱頂端設置有加工臺，加工臺內(nèi)設置有鍍膜材料傳輸水路，加工臺對應傳輸水路上方設置有蒸發(fā)口，且蒸發(fā)口內(nèi)...
								
            
							
            
							
						
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								      一種真空鍍用治具模具結構，包括一上蓋(100)、一下蓋(200)以及設置于所述上蓋(100)與所述下蓋(200)之間的至少一個中蓋(300)，所述上蓋(100)朝向所述中蓋(300)的一側(cè)設置有與所述中蓋(300)上部分相配合的第一承載槽(...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜旋轉(zhuǎn)裝置，涉及真空鍍膜技術領域。本實用新型包括底座，還包括：所述底座的頂部設置有臺體，所述臺體的頂部設置有真空鍍膜機主體，所述真空鍍膜機主體的前端設置有蓋體，所述真空鍍膜機主體頂部的一側(cè)設置有真空泵，所述真空泵的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鍍膜裝置技術領域，公開了一種離子束輔助的化合物薄膜低缺陷沉積裝置，包括氣相沉積爐本體，氣相沉積爐本體的內(nèi)部開設有真空腔，真空腔內(nèi)腔的底部設置有安裝座，安裝座上對稱設置有兩組用于固定蒸發(fā)舟的固定機構；本發(fā)明通過兩組固定機構、驅(qū)動機構...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及集成光電器件制造技術領域，具體是一種集成光電器件反射鏡的電阻熱蒸發(fā)精準鍍膜設備，包括底座，所述底座的上表面固定連接有真空箱，所述真空箱的內(nèi)部頂面轉(zhuǎn)動連接有第一齒輪，本發(fā)明能夠通過第一電機驅(qū)動齒輪傳動，帶動圓筒及防護桶轉(zhuǎn)動，防護桶借...
								
            
							
            
							
						
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