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								      本申請公開一種反應腔的蓋體組件及晶圓處理裝置，該蓋體組件包括：用于密封地蓋設于開口處的蓋體，在蓋體蓋設于開口處時，反應腔可被配置為真空狀態；蓋體中貫穿設置有與反應腔連通的進氣孔，進氣孔用于使空氣進入處于真空狀態的反應腔；以及，與進氣孔連通的...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及一種Cr?Ti?N合金膜、Cr?Ti?N合金涂層、合金膜制品和應用。該Cr?Ti?N合金膜含有Cr?Ti?N合金材料，并滿足如下兩個特征：X射線衍射圖在34°～50°的衍射角2θ(°)范圍內具有峰，且在34°～50°范圍內的至少一...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及胎式挖掘機技術領域，尤其涉及一種輪胎式挖掘機用雙輪胎胎側防夾碎石結構，包括內輪胎和外輪胎，內輪胎的外側設置有第一突起部，第一突起部與外輪胎的內側相抵接，外輪胎的內側設置有第二突起部，第二突起部與內輪胎的外側相抵接，第一突起部與第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及起重機械技術領域，具體涉及一種井下貨物轉運用起重機，井下貨物轉運用起重機包括支架、吊臂、吊運組件和液壓千斤頂，液壓千斤頂具有活塞腔一、活塞腔二和活塞腔三，活塞腔一和活塞腔三單向連通，且在連通處設置有開關閥一；活塞腔二和活塞腔三單向...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型屬于半導體Cover Ring加工技術領域的半導體Cover Ring熔射保護裝置。Cover Ring(1)包括外圈凸部(6)和內圈凸部(7)，外圈凸部(6)和內圈凸部(7)之間為產品環槽(8)，半導體Cover Ring熔射保...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種OLED材料制備用蒸鍍裝置，涉及蒸鍍設備技術領域，包括裝置殼體、基板，所述裝置殼體的內壁設置有坩堝，且坩堝的底部設置有對坩堝進行位移的移動平臺，所述坩堝的頂部設置有掩膜版，且掩膜版的一端設置有基板，所述坩堝頂部開設有出料...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及一種Cr?Ti?N合金材料、Cr?Ti?N合金膜及其制備方法、Cr?Ti?N合金涂層、合金膜制品和應用。該Cr?Ti?N合金材料包括Cr元素、Ti元素和N元素，在Cr?Ti?N合金材料中，Cr元素、Ti元素和N元素的原子比為x：y...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及Cr?Ti?N合金涂層用作鍍膜制品中導電涂層的應用，鍍膜制品包括基體，Cr?Ti?N合金涂層位于基體的至少一部分表面上；Cr?Ti?N合金涂層的X射線衍射圖在34°～50°的衍射角2θ(°)范圍內具有峰且至少一個2θ(°)衍射峰的...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及磨粉機技術領域，尤其涉及一種酸棗仁用旋轉式磨粉機；本申請提供了一種酸棗仁用旋轉式磨粉機，包括機座，機座的正上方布置有殼體，殼體的頂部布置有進料斗，殼體的一側布置有出料斗，殼體的頂部豎直布置有能向殼體內部連續且定量地供料的供料組件，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種免熱處理低成本高強高導熱鎂合金及其制備方法，涉及金屬材料領域。該合金的各組分及質量百分比分別為：Mn：0.43?0.6wt.％，Ca：0.11?0.2wt.％，添加元素，所述的添加元素為Zn、La或Ce中的任意一種或兩種，其...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及一種鍍膜制品、Cr?Ti?N合金涂層及在改善制品表面平整度中的應用。該鍍膜制品包括基體以及位于基體至少一側的Cr?Ti?N合金涂層；鍍膜制品包括第一表面，第一表面為漫反射占比PRd≤20％的外表面，該第一表面由Cr?Ti?N合金涂...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及銑直槽裝置技術領域，公開了一種機床用銑直槽裝置，包括裝配固定板，所述裝配固定板的一側固定有鑄鐵固定架，所述鑄鐵固定架的外側固定有水平移動鎖死機構，所述水平移動鎖死機構的外側設置有移動安裝架；本裝置設置有裝配連接機構，方便地完成...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種不銹鋼基粉末冶金合金標牌及其制備方法，涉及粉末冶金技術領域，合金標牌的制備方法包括以下步驟：注射：將不銹鋼金屬粉末、粘結劑加入容器中，加熱熔融，攪拌均勻，注射填充至模具中，冷卻，脫模，得到坯體；脫脂：將坯體依次進行前沖洗、脫...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種基于超臨界流體技術的Ni/NiO歐姆接觸改善方法，在襯底材料上沉積NiO層，然后在NiO層的表面沉積金屬鎳電極，再對襯底材料進出退火處理得到歐姆接觸，最后對襯底材料進行超臨界反應，實現襯底材料的歐姆接觸改善。解決現有熱退火技...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種自動調節溫度的靜電吸盤加熱器裝置，屬于靜電吸盤加熱器技術領域，包括陶瓷本體和陶瓷支撐部，陶瓷本體中設有吸附電極，吸附電極與電極導線電連接，陶瓷本體還設有加熱器，加熱器設置在吸附電極的下方，加熱器與測溫傳感器接觸，測溫傳感...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種用于軸類零件油封檔雙工位銑扁角度快速定位的輔助夾具，包含底座，所述的底座的上表面上設有四個可拆卸的V型塊，所述的底座的上表面的兩側邊緣分別設有一個縱向設置的柱狀定位塊，所述的柱狀定位塊的頂部分別設有可旋轉的橫向設置的定位...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及化學氣相沉積技術領域，具體涉及一種化學氣相沉積設備。化學氣相沉積設備包括反應腔體及置于反應腔體內的反應臺，反應腔體包括用于連接進氣管路的進氣腔體，進氣腔體具有與反應臺所在空間相通的中心腔，進氣腔體設有供進氣管路內的反應氣體通入...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種純鎳加熱器的鏡面加工方法，所述鏡面加工方法包括如下步驟：采用平底銑刀對純鎳加熱器的表面進行粗銑后，采用單晶鉆石銑刀進行精銑，得到粗糙度Ra<0.04μm的具有鏡面效果的純鎳加熱器。本發明通過采用特定的刀具對純鎳加熱器的表面進行...
								
            
							
            
							
						
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								      一種切削工具，所述切削工具包含基材和配置在所述基材上的覆膜，其中，所述覆膜具備由硬質顆粒構成的硬質顆粒層，所述硬質顆粒包含由第一單元層和第二單元層交替地層疊而成的多層結構，所述第一單元層由具有立方晶結構的第一化合物構成，所述第二單元層由具有...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型屬于鍋爐風煙系統技術領域，具體涉及二次風流速調節結構及其流化床鍋爐。本結構包括：主風箱，其適于產生二次風；若干分流風管，其一端與所述主風箱的出氣口連接；其中，至少一個所述分流風管上安裝有調風門；以及，所述主風箱低負荷運行時，調風門...
								
            
							
            
							
						
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