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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本申請提供了一種金屬掩膜版量測誤差的補償方法、補償系統、終端。金屬掩膜版量測誤差的補償方法，包括：獲取產品設計值；測量設備量測值；計算量測偏差值=設備量測值?產品設計值；其中，還包括：對同一量測設備的量測數據庫中不同測試點位中孔的位置精度值...
								
            
							
            
							
						
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								      一種顯影裝置，能夠可拆卸地與鼓組件組合并與鼓組件一起安裝到圖像形成裝置內，鼓組件包括感光鼓，顯影裝置包括：盒體，用于容納顯影劑，盒體在第一方向上具有相對設置的第一端和第二端，在第三方向上具有相對設置的第三端和第四端，第一方向與第三方向相交；...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種靜電圖像顯影用調色劑，其含有著色樹脂顆粒和外部添加劑，上述著色樹脂顆粒包含粘結樹脂、著色劑、具有能夠進行聚合反應的不飽和鍵的芳香族乙烯基系熱塑性彈性體以及離型劑，上述離型劑為具有甘油骨架的酯化合物。
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開一種顯影輥結構，包括與鼓芯進行配合送粉的鋁管，在所述鋁管的表面設置有粗糙送粉面。與現有技術相比，采用鋁管作為顯影輥，其生產工藝簡單，杜絕了污染鼓芯，黑度不夠及出現底灰的問題。同時，本實用新型設置的粗糙送粉面，可增大鋁管表面的粗...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開一種顯影盒，包括：可旋轉的顯影輥；顯影框架，包括顯影倉與儲粉倉，顯影倉容納顯影輥且收集顯影劑并為顯影輥進行顯影工作，儲粉倉用于儲存所需的顯影劑；筋條結構，以分隔顯影倉和儲粉倉；筋條結構形成開口，開口連通顯影倉與儲粉倉以傳遞顯影...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種擴容的廢粉倉結構，涉及激光打印機設備領域。該擴容的廢粉倉結構，包括大容量硒鼓和感光鼓，其特征在于：臨近所述感光鼓設置有廢粉倉和刮刀，所述廢粉倉連通有擴展廢粉倉，所述大容量硒鼓裝配到打印設備后，所述擴展廢粉倉設置在廢粉倉的重力方...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及以抑制由導電性部件引起的潤滑劑的刮落為課題的定影裝置和圖像形成裝置。定影裝置(9)包括定影帶(20)、加壓定影帶(20)并在與定影帶(20)之間形成定影夾持部(N)的加壓輥(21)、接地并與定影帶(20)的內表面接觸的導電性部件(...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種打印機硒鼓密封結構，涉及打印機硒鼓領域。該打印機硒鼓密封結構，包括殼體1、粉倉2、密封片5、給粉輥6、顯影輥7、防漏片10和OPC12，殼體1內部的后端開設有粉倉2，殼體1兩側內壁下部的后端均轉動連接有給粉輥6，殼體1兩側內壁...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于光熱發電技術領域，具體涉及一種沙儲熱光熱電站發電系統，包括聚光系統、集熱塔、輸送塔、熱交換系統和汽輪發電機組，集熱塔與輸送塔之間設有下進料通道和上進料通道，輸送塔內設有輸送機構；集熱塔上部的外殼為透明外殼，透明外殼內設有抬升機構，...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及一種磁吸相機框，包括框體、轉接座和轉接板，框體具有固定安裝拍攝設備的安裝腔，轉接座轉動連接于框體背離安裝腔的一側，轉接座設有第一磁鐵供磁吸外接，轉接板轉動連接于轉接座且與第一磁鐵間隔設于轉接座的同一側，轉接板具有供鎖緊軸穿設的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種正性光刻膠組合物，以重量份計，所述正性光刻膠組合物包括100份樹脂、0.5～10份重氮萘醌化合物、1～10份光致產酸劑和0.01～0.5份氮唑類化合物；所述氮唑類化合物具有式I或式II所示結構。所述采用特定結構的氮唑類化合物與...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種化學增幅型正型感光性樹脂組合物及其應用，該化學增幅型正型感光性樹脂組合物包含一第一樹脂(A1)、一第二樹脂(A2)、一光酸產生劑(B)、一溶劑(C)、一式(6)或式(7)所示的化合物(D)及一式(e1)所示的受阻胺化合物(E)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開一種光掩模及圖案轉移的方法，其中光掩模用于配合一曝光源圖案化一半導體元件。半導體元件定義有一第一元件區以及一存儲器區與第一元件區相鄰設置，半導體元件包含一存儲器元件設置于存儲器區。光掩模包含一基材、一預定圖案以及一第一光學輔助件。...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開一種版圖形成方法和掩膜版組、半導體器件的制備方法，涉及半導體技術領域。圖形成方法包括：提供第一掩膜版，第一掩膜版具有初始版圖圖形及添加至初始版圖圖形旁側的可曝光輔助圖形；基于第一掩膜版進行一次曝光，于待蝕刻層中形成初始版圖；提供第...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及一種磁吸相機框，包括框體、轉接座、連接臂和磁吸座，框體具有安裝腔用于固定安裝拍攝設備，轉接座轉動連接于框體背離安裝腔的一側，連接臂的一端轉動連接于轉接座，另一端轉動連接于磁吸座。磁吸座通過三處轉動連接設于框體上，大大提升了磁吸...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種監控拼接區域對準精度的方法，包括：進行光刻拼接工藝后，通過掃描設備獲取包含有拼接區域圖形的掃描圖像；通過所述掃描設備，基于所述掃描圖像，識別所述拼接區域圖形在第一方向上的關鍵尺寸，所述第一方向垂直于拼接方向；基于從所述掃描設...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種感光樹脂組合物、感光干膜、固化膜、印刷電線路板、顯示模組。以重量份計，該感光樹脂組合物包括：100～115份的堿溶性樹脂、5～20份的光聚合單體、3～10份的含端巰基酯類化合物、1～5份的光引發劑以及10～30份的環氧樹脂；...
								
            
							
            
							
						
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								      投射型顯示裝置具備：殼體(7)；發熱體(312)；第一風扇(15)，冷卻發熱體；內部箱(4)，配置于殼體的內部，收容發熱體及第一風扇；及第二風扇(16)，配置于殼體的內部，冷卻內部箱的外表面。
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及掩膜板加工設備技術領域，尤其是指一種調平機構，包括安裝架、安裝于安裝架的連接軸、一端轉動連接于安裝架的恒溫箱、用于帶動恒溫箱繞連接軸擺動的擺動組件、設置于恒溫箱的定位孔及連接于安裝架的定位件；本實用新型能夠調節恒溫箱的位置，降...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及一種光學鄰近效應的修正方法，包括：獲取待處理版圖以及目標圖形，所述目標圖形為所述待處理版圖經過曝光處理后的理想圖形；采用OPC修正算法對所述待處理版圖進行修正處理，獲取所述待處理版圖對應的第一修正版圖，所述第一修正版圖的邊緣線條包...
								
            
							
            
							
						
            • 
					
                    
          
                
          

                 
          
                 	
                 	
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