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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實用新型涉及一種磁吸相機框，包括框體、轉接座、連接臂和磁吸座，框體具有安裝腔用于固定安裝拍攝設備，轉接座轉動連接于框體背離安裝腔的一側，連接臂的一端轉動連接于轉接座，另一端轉動連接于磁吸座。磁吸座通過三處轉動連接設于框體上，大大提升了磁吸...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開一種版圖形成方法和掩膜版組、半導體器件的制備方法，涉及半導體技術領域。圖形成方法包括：提供第一掩膜版，第一掩膜版具有初始版圖圖形及添加至初始版圖圖形旁側的可曝光輔助圖形；基于第一掩膜版進行一次曝光，于待蝕刻層中形成初始版圖；提供第...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種調焦調平裝置與方法，裝置包括：位移臺，用于承載待測目標物；光學成像系統，位于待測目標物遠離位移臺的一側；垂向位移傳感器，用于測量待測目標物的面型；驅動機構，使位移臺隨橫向軸和/或縱向軸移動；垂向軸以使光學成像系統隨垂向軸移動...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及材料領域，公開了一種用于MicroLED色轉換層的高分辨量子點光刻膠及其制備方法，量子點光刻膠的制備原料包括功能性組分及可選地溶劑，基于制備原料的總量，功能性成分的量為20?100wt.%，功能性組分包括量子點、多官能團單體、單官...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及光刻膠技術領域，具體涉及一種用于高分辨率顯示面板的彩色光刻膠噴涂顯影工藝，包括以下步驟：S1.制備復合彩色光刻膠；S2.基板預處理；S3.噴涂工藝；S4.預烘烤；S5.曝光；S6.顯影；S7.后烘烤；本發明通過優化彩色光刻膠的組分...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用公開了一種用于相機的木制模擬光圈結構，包括鏡頭、相機本體，鏡頭與相機本體連接，還包括：第一層木質結構、第二層木質結構、第三層結構；第一層木質結構和第二層木質結構的外輪廓為波浪形和凹陷交替的形狀，與手指抓握姿勢相適配；第一層木質結構和第...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種在形成圖案時能夠以充分的水平發揮感度或LWR性能、圖案矩形性、CDU性能、圖案圓形性、MEEF、曝光寬容度的感放射線性組合物及圖案形成方法。一種感放射線性組合物，包含下述式(1)所表示的第一鎓鹽化合物、下述式(2)所表示的第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及光刻技術領域，特別涉及一種掩模圖形優化方法及掩模板。所述方法提供初始掩模版圖，將初始掩模版圖劃分為預設等級的分塊，相鄰分塊間界定原始邊界線，原始邊界線擴展形成擴展邊界線；將分塊內掩模圖形進行打斷獲得線段；在線段上放置初始評價點，模...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請適用于顯示技術領域，具體提供了一種光刻膠、顯示基板及顯示面板，該光刻膠中含有至少一種如下式(Ⅰ)所示的顏料分散劑：(Ⅰ)，其中，A包括亞烷基或亞烯基；Z包括羧基，羥基，巰基，取代的烷基，及取代或未取代的烷氧基、烯基、烯氧基、酯基、酰基...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種光學平臺、攝像模組及電子設備，涉及影像設備技術領域，其中，光學平臺包括：基座，具有第一抵接部；上蓋，與基座固定連接，上蓋與基座之間具有容納空間；移動座，滑動設置在容納空間內，移動座與上蓋之間具有間隙，移動座具有第二抵接部，移...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種復印設備的磁輥結構，屬于磁輥結構領域，包括固定塊，所述固定塊上設置有安裝裝置，所述安裝裝置包括有連接板，所述連接板固定連接在固定塊底部，所述固定塊底部設置有底座，所述連接板底部固定連接有豎桿，所述豎桿外壁固定連接有限位環，所...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種光圈結構，具體是一種彈性消隙的可變光圈結構及攝影設備，包括固定組件，固定組件安裝有轉盤和光圈葉片，光圈葉片通過導向結構從動于轉盤與固定組件之間，固定組件安裝有彈性變形件，彈性變形件分別抵靠在固定組件和光圈葉片以限制光圈葉片的轉...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請屬于光刻工藝領域，涉及一種光刻分辨率增強方法、裝置、計算機設備及存儲介質。所述光刻分辨率增強方法包括：獲取系統參數信息；根據所述系統參數信息構建正向光刻模型，并基于所述正向光刻模型以進行目標圖形為期望輸出進行迭代求解，得到最優波前相位...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種廢棄光刻膠排放裝置及涂膠顯影機，包括漏斗和排液管，所述漏斗上布設有沿其軸向活動的升降板，所述升降板一端延伸至漏斗中部，升降板一端固定安裝有伸縮管，伸縮管底端固定連通有內置空腔的壓板，壓板上開設有若干出液孔，伸縮管的自由端...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種適應性強的鏡頭防護蓋，包括防護蓋，防護蓋內設置有第一連接板和第二連接板，第二連接板滑動連接在防護蓋的內壁上，并且第二連接板外圍安裝有若干個L型連接件，若干個L型連接件上均轉動連接有連桿，若干個連桿的另一端均轉動連接有L型...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實施例提供了一種剛性工件曝光設備，用于提高激光直寫成像設備的精度。剛性工件曝光設備包括：底座、掃描運動載臺、滾軸驅動系統、按壓系統以及光源模組；底座上設有導軌，掃描運動載臺沿導軌往復移動時，掃描運動載臺上的光源模組中的光源對剛性工件上...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于材料技術領域，具體涉及一種感光樹脂組合物及其應用。感光樹脂組合物包含以下各組分：堿溶性樹脂、樹脂單體、固化引發劑、溶劑、助劑。本發明的感光樹脂組合物具有優異的光學性能、固化速率及成膜性能，在實際應用中與基板的附著能力好，能夠在較低...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開一種厚光刻膠的涂布方法，包括以下步驟：1)對待涂膠的晶圓進行預處理；2)采用分步滴膠和分步控制轉速的方法令光刻膠成膜；3)對涂膠后的晶圓進行去邊、清洗和干燥處理；4)對所述晶圓進行曝光和顯影；5)對所述晶圓進行后烘處理；6)對所述...
								
            
							
            
							
						
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								      一種獲取對于襯底形貌測量的校準的方法，該方法包括：對于校準襯底上的多個位置中的每個位置：在該位置處獲取校準襯底高度參考值；以及在該位置處獲取多個校準襯底高度測量值，每個校準襯底高度測量值對應于校準襯底在該位置處的表面的測量，其中多個位置的總...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及印刷電路板制造技術領域，具體為一種高耐化性感光干膜及其制備方法，按重量份計，至少包括以下原料：含苯環單體5?15份，丙烯酸酯類單體100?200份，功能性單體20?70份，溶劑200?300份，光引發劑0.5?2份，通過優化產品體...
								
            
							
            
							
						
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