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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本發明公開了一種投影屏幕和投影系統，包括：表面功能層、菲涅爾透鏡層和位于菲涅爾透鏡層的透鏡單元表面上的共振層，共振層采用單層薄膜，可以對投影設備出射的投影光線進行選擇性反射，而對其它波段的光線反射率大幅降低，由此可以顯著提高投影圖像的對比度...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及半導體光學設備技術領域，且公開了高精度手動撓性定位機構，包括底板，所述底板兩側均設置有多個螺釘一，且底板上設置有大理石平臺，所述底板上固定連接有兩個導軌底座，且導軌底座上均固定連接有導軌，兩個所述導軌上設置有同一個照明支架，且...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種攝影控光裝置，包括：第一控光箱體，由遮光材質制成，其內部具有反光面；第二控光箱體，由透光材質制成；第一控光箱體和第二控光箱體拼合形成空腔，該空腔具有用于連接光源的安裝端，且第一控光箱體和第二控光箱體位于安裝端的徑向兩側。...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種應用于光頭底板的散熱機構及其曝光機，包括水冷機；顯露于光頭底板表面的接頭組件，所述接頭組件與所述水冷機連通；以及分布在光頭底板內部的水道，所述光頭底板表面安裝有光頭組，所述水道貫穿所述光頭底板且能夠覆蓋所述光頭組，以帶走所...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了溫差能發電系統海水舉升裝置，包括支撐平臺和舉升泵，支撐平臺上表面設置有懸掛組件，懸掛組件的下端通過球型接頭與處于最上端的第一個舉升立管單根連通；最上端的第一個舉升立管單根外圓周上還安裝有張緊組件和伸縮組件；第一個舉升立管單根...
								
            
							
            
							
						
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								      提供一種能夠實現由碳納米管制成并且透射率的面內均一性優異的防護膜的技術。防護膜(12)包括：分別沿著第1方向(D1)延伸并且沿著徑向排列的多個第1碳納米管(1200a)、以及分別沿著與所述第1方向(D1)交叉的第2方向(D2)延伸并且沿著徑...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種多通道激光直寫控制系統及方法，本發明涉及激光直寫技術領域。該一種多通道激光直寫控制系統及方法，通過驅動桿受到凸輪驅動后帶動多個排風管繞著其轉軸向下轉動，驅動桿底端的導向輪沿著升降板頂部滾動的同時下壓升降板，當凸輪轉過一定角度...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種應用于消費化債系統的債務確認方法，包括有第一階段、接收獲取債務數據請求，解析得到用戶賬號信息，并根據用戶賬號信息查詢并反饋關聯的所有債務數據，債務數據包括已簽署確認債務數據和未簽署確認債務數據；第二階段、查詢債務數據中的未簽...
								
            
							
            
							
						
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								      一種光致抗蝕劑圖案形成方法，包括：(i)在支承體上使用光致抗蝕劑組合物形成光致抗蝕劑膜的工序；(ii)將所述光致抗蝕劑膜曝光的工序；及(iii)將所述曝光后的光致抗蝕劑膜顯影而形成光致抗蝕劑圖案的工序，其特征在于，所述抗蝕劑組合物含有：對顯...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及電子器件技術領域，具體涉及一種漸變式電極薄膜鈮酸鋰調制器，包括襯底層、低折射率下蓋層、薄膜鈮酸鋰層、電極結構和低折射率上蓋層，本發明實現微波與光波速度自然匹配，無需額外微結構或增厚金屬，顯著拓寬電光帶寬；薄膜鈮酸鋰的高重疊因子降低...
								
            
							
            
							
						
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								      一種納米壓印模板、制備方法及采用其的納米壓印設備，屬于納米壓印技術領域。所述納米壓印模板包括襯底和形成在襯底下表面上的、具有凹凸結構的待轉印微納米結構；其中，所述納米壓印模板的總厚度為0.3～2.0毫米。本申請的納米壓印模板通過減薄厚度，提...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種用于紫外光刻機的光刻板晶圓找平結構，涉及光刻機技術領域，包括工作臺的頂端安裝有光刻機本體；平衡組件；平衡組件包括固定連接在工作臺內部底端四角的立柱，每兩個立柱的頂端設置有連桿，連桿的內部開設有滑槽，兩個連桿的相近一端轉動連...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提出一種用于光刻機晶圓定位的成像對準機構，其包括承載裝配組件、圖像進光組件、進出分光組件、光源進光組件、圖像出光組件、變焦切換組件及感光成像組件，該對準機構采用光源鏡頭、折向鏡組、分光棱鏡及圖像鏡頭向晶圓標記傳輸光源光線，對其進行...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種汽輪發電機組ETS三重化冗余保護系統、方法及介質，系統包括：信號采集層配置三重化傳感器組，信號采集層的傳感器、接線盒均配備伴熱保溫組件，信號電纜采用耐寒屏蔽電纜；邏輯運算層以硬冗余PLC為核心控制器，將控制程序劃分為供熱保障...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于檔案修復保護技術領域，涉及一種霉變黑白照相底片霉斑掩蔽及影像恢復方法和應用，包括以下步驟：S1、對霉變黑白照相底片進行吹塵、清洗和晾干預處理；S2、將預處理后的霉變黑白照相底片鋪在玻璃板上，然后將甲基硅油滴在霉變黑白照相底片的一側...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種補光燈，包括燈體和兩個遮光組件，燈體包括手持部和照明部，兩個遮光組件分別設于照明部的兩側，遮光組件包括調節支座、座板和多個連接板，調節支座固定于照明部上，調節支座上設有調節面，座板的上下兩端側部設有安裝部，安裝部上設有第一轉...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及勢能裝置的技術領域，尤其涉及一種彈性勢能應用系統，包括儲能單元、釋能單元；儲能單元包括第一儲能棒、儲能支架、儲能齒條機構、能量輸入裝置；第一儲能棒放置在儲能支架中，第一儲能棒一端與儲能齒條機構觸接，儲能齒條機構連接能量輸入裝置...
								
            
							
            
							
						
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								      一種基于薄模板的納米壓印方法。所述納米壓印方法采用總厚度為0.3～2.0毫米的納米壓印模板，包括：將納米壓印模板裝配到納米壓印設備上；通過電致動器使納米壓印模板中心凸起；下壓納米壓印模板到預設位置，使其與壓印膠貼合；通過紫外光源使壓印膠固化...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于半導體光刻技術相關技術領域，其公開了一種振幅型全息掩模的優化生成方法及設備與應用，步驟為：(1)基于待生成的目標圖案、優化系統的初始待優化參數分布及優化系統的成像方法確定系統損失函數，并通過梯度下降法或共軛梯度法對系統損失函數進行...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了光源及掩模的協同優化方法、設備、介質及產品，涉及光刻仿真技術領域。該方法包括：確定出便于處理的像素化光源，并在像素化光源中篩選出光強值為第一光強值的像素點，篩選第一光強值的像素點是為了后續在進行成像計算時，僅計算第一光強值的像素...
								
            
							
            
							
						
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