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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      公開了高頻分辨率數(shù)字正弦波發(fā)生器。延遲電路對第一數(shù)字正弦信號施加一個采樣延遲，并輸出延遲的數(shù)字正弦信號。然后，通過加法器電路將第一數(shù)字正弦信號和延遲的數(shù)字正弦信號相加，以產(chǎn)生相加后的數(shù)字正弦信號。增益定標(biāo)電路將定標(biāo)因子應(yīng)用于相加后的數(shù)字正弦...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種電光調(diào)制器，屬于電光調(diào)制技術(shù)領(lǐng)域。該電光調(diào)制器包括馬赫曾德干涉光路、電極組件，馬赫曾德干涉光路包括第一分支波導(dǎo)與第二分支波導(dǎo)，電極組件包括射頻電極與直流偏置電極，射頻電極與直流偏置電極一體成型或單獨(dú)設(shè)置。因?yàn)楸景l(fā)明通過在第一分...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提出一種具有音圈驅(qū)動結(jié)構(gòu)的光刻機(jī)掩膜版微動平臺，其包括固定支撐基板、轉(zhuǎn)接支托座塊、限位保持撐板、滾動支墊球珠、樞轉(zhuǎn)限位螺栓、活動配接墊塊、活動裝配載板及音圈驅(qū)動組件，該微動平臺的驅(qū)動結(jié)構(gòu)采用音圈電機(jī)制作，不僅使得微動平臺的響應(yīng)速度...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種自適應(yīng)節(jié)能重力發(fā)電裝置，涉及重力發(fā)電相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，該自適應(yīng)節(jié)能重力發(fā)電裝置，包括底座及轉(zhuǎn)動安裝于底座上的主軸，主軸兩端均同軸固定有支撐盤；兩個支撐盤之間等距固定有至少六個隔板，相鄰兩個隔板之間滑動安裝有配重塊；一號安裝前，開...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于半導(dǎo)體光刻技術(shù)相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，其公開了一種振幅型全息掩模的優(yōu)化生成方法及設(shè)備與應(yīng)用，步驟為：(1)基于待生成的目標(biāo)圖案、優(yōu)化系統(tǒng)的初始待優(yōu)化參數(shù)分布及優(yōu)化系統(tǒng)的成像方法確定系統(tǒng)損失函數(shù)，并通過梯度下降法或共軛梯度法對系統(tǒng)損失函數(shù)進(jìn)行...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了光源及掩模的協(xié)同優(yōu)化方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品，涉及光刻仿真技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：確定出便于處理的像素化光源，并在像素化光源中篩選出光強(qiáng)值為第一光強(qiáng)值的像素點(diǎn)，篩選第一光強(qiáng)值的像素點(diǎn)是為了后續(xù)在進(jìn)行成像計(jì)算時，僅計(jì)算第一光強(qiáng)值的像素...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種堆料設(shè)備，特別涉及一種碼垛裝置，解決了碼垛設(shè)計(jì)問題。包括若干連接桿組成的框架體，所述框架體底部還設(shè)有底桿和料板，所述料板掛靠在底桿上固定，所述框架體上又設(shè)有承架桿以及驅(qū)動承架桿上下移動的提升機(jī)構(gòu)，所述承架桿上又設(shè)有限位滑動...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種鏡片組件及光學(xué)引擎，屬于投影顯示技術(shù)領(lǐng)域。鏡片組件包括：支架、光學(xué)鏡片、轉(zhuǎn)動部和固定部。支架通過轉(zhuǎn)動部與殼體連接后，能夠繞第一軸線或第二軸線獨(dú)立轉(zhuǎn)動，并且在完成角度調(diào)整后，固定部可以直接與殼體固定連接，從而使得安裝在支架上的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于光刻膠技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯影去膠可堿溶的光刻膠的制備方法。本發(fā)明旨在解決現(xiàn)有的光刻膠無法在顯影和去膠兩段工藝中實(shí)現(xiàn)完全堿溶的問題。本發(fā)明通過微乳液聚合將羧基填料前體制備成羧酸基填料，采用偶聯(lián)劑改性酚基填料前體獲得酚基填料，兩者...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實(shí)施例提供一種用于傳感探測領(lǐng)域的可編程增益儀表放大器。應(yīng)用于集成電路技術(shù)領(lǐng)域，包括：低通濾波模塊、斬波放大模塊、第一可編程增益網(wǎng)絡(luò)、第二可編程增益網(wǎng)絡(luò)和緩沖放大模塊；低通濾波模塊用于接收輸入的差分信號，并對差分信號進(jìn)行濾波，輸出濾波信...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種適應(yīng)性強(qiáng)的鏡頭防護(hù)蓋，包括防護(hù)蓋，防護(hù)蓋內(nèi)設(shè)置有第一連接板和第二連接板，第二連接板滑動連接在防護(hù)蓋的內(nèi)壁上，并且第二連接板外圍安裝有若干個L型連接件，若干個L型連接件上均轉(zhuǎn)動連接有連桿，若干個連桿的另一端均轉(zhuǎn)動連接有L型...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實(shí)施例提供了一種剛性工件曝光設(shè)備，用于提高激光直寫成像設(shè)備的精度。剛性工件曝光設(shè)備包括：底座、掃描運(yùn)動載臺、滾軸驅(qū)動系統(tǒng)、按壓系統(tǒng)以及光源模組；底座上設(shè)有導(dǎo)軌，掃描運(yùn)動載臺沿導(dǎo)軌往復(fù)移動時，掃描運(yùn)動載臺上的光源模組中的光源對剛性工件上...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于材料技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種感光樹脂組合物及其應(yīng)用。感光樹脂組合物包含以下各組分：堿溶性樹脂、樹脂單體、固化引發(fā)劑、溶劑、助劑。本發(fā)明的感光樹脂組合物具有優(yōu)異的光學(xué)性能、固化速率及成膜性能，在實(shí)際應(yīng)用中與基板的附著能力好，能夠在較低...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開一種厚光刻膠的涂布方法，包括以下步驟：1)對待涂膠的晶圓進(jìn)行預(yù)處理；2)采用分步滴膠和分步控制轉(zhuǎn)速的方法令光刻膠成膜；3)對涂膠后的晶圓進(jìn)行去邊、清洗和干燥處理；4)對所述晶圓進(jìn)行曝光和顯影；5)對所述晶圓進(jìn)行后烘處理；6)對所述...
								
            
							
            
							
						
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								      一種具有導(dǎo)流槽的納米壓印模板、其制作方法及應(yīng)用，屬于納米壓印技術(shù)領(lǐng)域。所述納米壓印模板包括一襯底，以及形成在所述襯底下表面上的凸臺；所述凸臺上設(shè)置有具有待轉(zhuǎn)印凹凸結(jié)構(gòu)的微納米結(jié)構(gòu)；其中，所述凸臺的四個角上設(shè)置有用于將壓印膠中的氣泡排出的導(dǎo)流...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種在線式光罩盒光罩固定結(jié)構(gòu)，包括盒體、光罩本體、門體、拉桿、兩個固定框、固定部件和輔助部件，門體與盒體轉(zhuǎn)動連接，并位于盒體的一側(cè)，拉桿與門體固定連接，并位于門體的外側(cè)，兩個固定框分別與光罩本體...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種用于接近式光刻機(jī)的套刻穩(wěn)定性控制方法，方法在接近式光刻基于圖像處理的對準(zhǔn)技術(shù)基礎(chǔ)上，使用預(yù)訓(xùn)練的方法提取特征形成標(biāo)準(zhǔn)化的對準(zhǔn)模板圖像，基于多次工藝實(shí)驗(yàn)，構(gòu)建對準(zhǔn)特征模板的支持集，進(jìn)行訓(xùn)練與迭代優(yōu)化，以建立對準(zhǔn)模板模型庫，通過...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及水力發(fā)電相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種高效水輪發(fā)電裝置，包括：水輪機(jī)模塊，增壓沖擊模塊：包括增壓水泵和射流噴嘴，經(jīng)增壓水泵增壓后的水流由射流噴嘴噴出，射流噴嘴噴出的水流用于沖擊葉片組件；輔助加速單元：包括若干移動體，若干移動體均勻布置在...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種成像設(shè)備，包括掃描平臺、成像探測機(jī)構(gòu)、主動光源機(jī)構(gòu)和激光準(zhǔn)直機(jī)構(gòu)，成像探測機(jī)構(gòu)和主動光源機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在掃描平臺的兩側(cè)并以掃描平臺的豎向中心軸為旋轉(zhuǎn)中心，將成像探測機(jī)構(gòu)和主動光源機(jī)構(gòu)運(yùn)動載荷的質(zhì)心設(shè)置在掃描平臺的豎向中心軸...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種機(jī)頂閃光燈及拍攝系統(tǒng)，機(jī)頂閃光燈包括本體和熱靴座，本體上設(shè)有第一磁吸件、第一導(dǎo)電觸點(diǎn)、無線傳輸模塊及用于發(fā)出閃光光線的閃光部，無線傳輸模塊可接收來自外部的控制信號，相機(jī)的控制信號可通過無線傳輸模塊傳遞至閃光部；熱靴座上設(shè)...
								
            
							
            
							
						
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          技術(shù)分類
          
                  
          
                      
                  
          
                
          
            
          
          
          
      
          
    
          
    
    

























































































































































 
 
    







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