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          電解或電泳工藝的制造及其應(yīng)用技術(shù)
          • 本發(fā)明公開了一種厚度與形狀可控的冰面快速成型模具,包括側(cè)板、隔板、底板、超疏水層、和插電接口;側(cè)板包括第一側(cè)板、第二側(cè)板、第三側(cè)板和第四側(cè)板;第一側(cè)板與第二側(cè)板平行,并與底板連接;所述第一側(cè)板和第二側(cè)板表面設(shè)置有等間距的凹槽;第三側(cè)板與第四...
          • 本實(shí)用新型揭示了一種往復(fù)式掛鍍?cè)O(shè)備包括:電鍍組件包括電鍍槽及電鍍架,電鍍槽內(nèi)設(shè)置有填充電鍍?nèi)芤旱娜葜每臻g,具體溶液種類根據(jù)工件所需鍍層種類進(jìn)行選擇。該往復(fù)式掛鍍?cè)O(shè)備,通過設(shè)置擺動(dòng)組件,使得在電鍍槽對(duì)電鍍架上的工件進(jìn)行電鍍時(shí),能通過驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)...
          • 本發(fā)明涉及一種釘槍,在打釘之前,傳動(dòng)件與鎖定件配接,即鎖定件處于第一狀態(tài),此時(shí)活塞保持于蓄能位置。接著,在驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的作用下,傳動(dòng)件發(fā)生動(dòng)作與鎖定件脫離配接,使得鎖定件處于第二狀態(tài),此時(shí)活塞從蓄能位置上被釋放。瞬間釋放的能量推動(dòng)活塞帶動(dòng)撞針一...
          • 本發(fā)明公開了一種氧化負(fù)壓節(jié)能循環(huán)管道系統(tǒng)及方法,包括冷卻設(shè)備和離心泵,包括反應(yīng)池與回流池,所述反應(yīng)池上設(shè)置有進(jìn)水孔,所述進(jìn)水孔內(nèi)穿設(shè)有進(jìn)流管,所述進(jìn)流管沿反應(yīng)池的長(zhǎng)度方向延伸,所述進(jìn)流管上設(shè)置有通孔,所述出水孔在高度方向上高于進(jìn)水孔,所述出...
          • 本發(fā)明公開了一種氣動(dòng)釘槍的排氣開關(guān)裝置,包括導(dǎo)氣閥、游動(dòng)頂針和彈性件,所述導(dǎo)氣閥的導(dǎo)氣閥本體一體成型,其與氣動(dòng)釘槍固定連接,所述游動(dòng)頂針及彈性件設(shè)于所述導(dǎo)氣閥內(nèi),所述游動(dòng)頂針的一端與彈性件相抵接,另一端向?qū)忾y外延伸;所述導(dǎo)氣閥上設(shè)有進(jìn)氣孔...
          • 本發(fā)明涉及電解水制氫技術(shù)領(lǐng)域,具體是一種用于電解水制氫的滾珠式主極板結(jié)構(gòu)及制備方法,包括表面經(jīng)電鍍處理的金屬滾珠、兩側(cè)開設(shè)有若干個(gè)滾珠凹槽的主極板,以及頂部和/或底部開設(shè)有流通孔的雙極框,金屬滾珠具有若干個(gè)且分別可流動(dòng)地鋪設(shè)在滾珠凹槽內(nèi),金...
          • 本實(shí)用新型屬于電路板加工技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種電路板電鍍用夾持機(jī)構(gòu),包括:安裝板,安裝板頂部設(shè)有側(cè)板,側(cè)板側(cè)壁設(shè)有軸承,軸承內(nèi)壁套接雙向絲桿,雙向絲桿另一側(cè)螺紋連接馬達(dá),馬達(dá)底部連接于安裝板,雙向絲桿表面螺紋連接移動(dòng)桿,移動(dòng)桿側(cè)壁滑動(dòng)連接于...
          • 本發(fā)明公開了一種釘槍維護(hù)系統(tǒng)及方法,通過在電路板上增加維護(hù)模塊,當(dāng)控制器檢測(cè)維護(hù)模塊處于低電平狀態(tài)時(shí),判斷釘槍處于維護(hù)模式,此時(shí)通過觸發(fā)扳機(jī)模塊,電機(jī)反向旋轉(zhuǎn)以控制彈射模塊處于松弛狀態(tài),在此狀態(tài)下可直接對(duì)釘槍進(jìn)行拆機(jī)維護(hù),無需尋找外部工具進(jìn)...
          • 本實(shí)用新型公開了一種微型臭氧電極模塊結(jié)構(gòu),涉及微型臭氧發(fā)生技術(shù)領(lǐng)域,用于解決現(xiàn)階段臭氧發(fā)生器結(jié)構(gòu)復(fù)雜,體積大,且臭氧發(fā)生效率低的問題;本實(shí)用新型通過直插殼體結(jié)構(gòu)的臭氧電極模塊,將極板直接作用在水溶液中,產(chǎn)生的臭氧不會(huì)直接作用在殼體內(nèi),確保整...
          • 一種電解液循環(huán)流動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極電鍍裝置,包括旋轉(zhuǎn)陰極輥和電解液循環(huán)系統(tǒng);電解液循環(huán)系統(tǒng)包括電解池、分液板、分液池、溢流池及液泵;旋轉(zhuǎn)陰極輥懸置于電解池中,環(huán)形陽極環(huán)繞于陰極輥,置于電解池內(nèi)壁;分液池位于電解池下方、并通過分液板隔離,分液板包括...
          • 本公開涉及鋁合金陽極氧化膜封孔技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種鋁合金陽極氧化膜用固色劑及其制備方法;150重量份的鋁合金陽極氧化膜用固色劑包含以下重量份的組分:15?25重量份的有機(jī)酸、1?3重量份的表面活性劑、0.1?1重量份的緩蝕劑、0.1?1重量...
          • 本實(shí)用新型公開了一種用于硫酸鎳鈷溶液的凈化設(shè)備,屬于硫酸鎳鈷溶液凈化技術(shù)領(lǐng)域,包括處理槽,所述處理槽的右側(cè)連接有電機(jī),且處理槽的右側(cè)上端連接有進(jìn)料管,并且處理槽的下表面連接有卸料閥;所述電機(jī)的輸出端連接有連接軸,且連接軸的表面等間距的固定連...
          • 本實(shí)用新型提供一種可調(diào)節(jié)五金電鍍陽極保護(hù)裝置,涉及五金電鍍技術(shù)領(lǐng)域,包括調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的底部固定連接有保護(hù)機(jī)構(gòu),調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括有固定架,固定架的外壁一側(cè)開設(shè)有滑槽,滑槽的內(nèi)表壁滑動(dòng)嵌設(shè)有滑塊,滑塊的外壁一側(cè)固定連接有支撐柱,支撐柱的內(nèi)表壁...
          • 本實(shí)用新型公開了一種端蓋內(nèi)壁鍍鉻工藝裝置,包括端蓋本體,所述端蓋本體頂部的中心固定裝配有象形錐度圓環(huán)陽極,所述端蓋本體的靠外側(cè)位置開設(shè)有若干個(gè)螺紋孔一,所述象形錐度圓環(huán)陽極的內(nèi)部設(shè)置有絕緣套,所述絕緣套外側(cè)的底部與象形錐度圓環(huán)陽極螺紋連接,...
          • 本發(fā)明公開了一種高活性電解水雙功能催化劑的制備方法與應(yīng)用,屬于電催化劑制備技術(shù)領(lǐng)域。采用水熱法制備鐵摻雜鈷鉻雙氫氧化物,隨后通過電化學(xué)活化進(jìn)行自重構(gòu),獲得鈷鐵鉻羥基氧化物催化劑。這項(xiàng)技術(shù)方案不僅利用鐵摻雜增加催化劑的金屬活性位點(diǎn),而且利用催...
          • 本公開涉及機(jī)械驅(qū)動(dòng)技術(shù)領(lǐng)域,尤其是提供一種具有高速脫離功能的飛機(jī)自主滑行系統(tǒng),其中,包括機(jī)載油箱、機(jī)載液壓泵、伺服閥和液壓馬達(dá);所述機(jī)載液壓泵的進(jìn)口與所述機(jī)載油箱連通;所述機(jī)載液壓泵的進(jìn)口和出口通過所述伺服閥與所述液壓馬達(dá)的進(jìn)口和出口連通;...
          • 本實(shí)用新型公開了一種電子電路箔毛面銅粉消除裝置,包括底座,安裝在陰極輥的一側(cè),所述的底座上側(cè)靠近陰極輥的位置安裝有剝離輥,所述的陰極輥上引出的銅箔從剝離輥上緊貼繞過,所述的底座上側(cè)靠近剝離輥的位置滑動(dòng)設(shè)置有硅膠輥,所述的硅膠輥的一側(cè)滑動(dòng)設(shè)置...
          • 本申請(qǐng)涉及金屬電鍍電極座領(lǐng)域,且公開了防腐蝕且易更換電極的金屬電鍍電極座,包括底座和兩個(gè)限位架,所述底座的頂部卡接有電極,且底座的內(nèi)壁開設(shè)有若干個(gè)連接孔,若干個(gè)所述連接孔均勻的分布在底座表面,所述電極的表面開設(shè)有兩個(gè)與限位架相適配的卡槽,兩...
          • 本發(fā)明公開了一種用于電泳時(shí)保護(hù)皮帶輪螺紋的皮帶輪防護(hù)裝置,包括上防護(hù)部和下防護(hù)部,所述上防護(hù)部用于對(duì)皮帶輪的螺紋部進(jìn)行防護(hù),所述下防護(hù)部對(duì)應(yīng)皮帶輪的內(nèi)腔進(jìn)行防護(hù),所述上防護(hù)部與皮帶輪的螺紋部可拆卸連接,上防護(hù)部與皮帶輪的螺紋部之間形成密封,...
          • 本申請(qǐng)涉及電化學(xué)器件技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種電化學(xué)器件的零件及電化學(xué)器件。零件包括:基體,基體包括基板和若干陣列單元,陣列單元凸出設(shè)于基板的至少一側(cè)表面,任意相鄰的陣列單元之間具有間距;鍍膜層,沉積在基板和陣列單元的表面上,鍍膜層具有金屬;其...
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