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								      本發明涉及表面處理領域，具體為一種球閥球體的表面處理工藝；該表面處理工藝包括：將球閥球體經過預處理，得到經預處理的球閥球體；將經預處理的球閥球體經過活化，得到經活化的球閥球體；配置化學鍍液，將經活化的球閥球體施鍍，得到經化學鍍的球閥球體；再...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及電子連接線加工領域，具體涉及一種加工電子連接線用的鍍錫裝置，包括：加熱裝置和設置在其頂部的熔錫腔，加熱裝置的兩側分別連接有矩形框體，熔錫腔的上方設有可旋轉的U形安裝板組件，U形安裝板組件包括U形安裝板體，U形安裝板體內腔的底部...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種堆疊式舟載具及管式PECVD設備，包括：絕緣連接座、第一舟載具和第二舟載具；所述絕緣連接座分別設置在第一舟載具和第二舟載具的兩端，以用于實現第一舟載具和第二舟載具沿豎直方向堆疊連接；所述第一舟載具和第二舟載具均采用碳纖維...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及溫度調控技術領域，特別是涉及一種熱鍍鋅智能溫度自適應調控裝置，用于解決現有鍍鋅裝置不易根據鍍件自動適配溫度的問題；該裝置包括爐體機構，爐體機構的上部設置有第一輸送機構和第二輸送機構，第二輸送機構包括兩種輸送狀態，在第一輸送狀態下，...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請提供一種鋅管在鋅鍋上的引上磁輥，包括機架，包括入料端和出料端，在出料端設有鋅液回收槽，在鋅液回收槽上設有移動輥；磁力輥傳送機構，設置在機架上并臨近入料端設置，包括安裝架和設置在安裝架上的多排磁力輥和風機，風機的出風口朝向磁力輥設置；抓...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種微半球鍍膜治具，包括定位器、夾具，以及與夾具相連的驅動組件，定位器頂面開設有用于容置微半球的沉臺孔，沉臺孔內具有與微半球的唇沿面配合的掩膜腔，微半球表面無需鍍膜的部分伸入掩膜腔以進行掩膜，夾具包括頂錐部，頂錐部從所述定位...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種金屬線材磷化處理設備，包括槽口朝上的磷化槽，所述磷化槽的上方設有由起吊設備控制在三維空間內作自由移動的鋼卷吊鉤，鋼卷吊鉤具有作垂直上下延伸的縱吊臂、作水平左右或前后延伸的橫吊臂，所述磷化槽的內槽底設有左輥架和右輥架，右輥...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及蒸鍍技術領域，具體是一種半導體基底反射鏡的激光精準蒸鍍裝置，包括抽真空箱，所述抽真空箱的內壁固定連接有第一隔熱間板，所述抽真空箱的內壁固定連接有第二隔熱間板，所述抽真空箱的內部底面固定連接有伺服電機，所述伺服電機的輸出端固定連接有...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種進氣爐門結構，包括爐門板，所述爐門板一側設有進氣組件，所述爐門板另一側通過彈性調節裝置連接有調節板，所述調節板連接有用于帶動調節板和爐門板移動的驅動裝置。本進氣爐門結構，反應氣體從進氣組件進氣，驅動裝置驅動爐門板移動，實...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及閥桿的氮化領域，尤其涉及一種避免閥桿氮化變形結構。所述避免閥桿氮化變形結構包括氮化爐、鋼絲繩、連接結構和調節結構，氮化爐內部安裝有閥桿，閥桿頂端開設有通孔，氮化爐內壁頂端固定連接有橫梁，鋼絲繩一端安裝在橫梁中部，另一端安裝在閥桿的...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及到加工設備技術領域，尤其涉及一種限位裝置、輸送設備及磁控濺射傳動裝置。該限位裝置包括：第一限位圈和第二限位圈，第一限位圈和第二限位圈用于套設在傳動桿上并分別設置于傳動輪的兩側，傳動輪用于固定套設于傳動桿上；第一限位圈面向傳動輪的一...
								
            
							
            
							
						
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								      根據本實用新型實施例的磁控濺射鍍膜裝置，包括：機架；真空罩，設在機架上，真空罩內限定有真空腔；內濺射陰極，外表面覆蓋有靶材，當磁控濺射鍍膜裝置位于第一狀態時，內濺射陰極與真空罩相連以用于深入待鍍工件的腔體內并通過磁控濺射對待鍍工件的內壁面鍍...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型屬于磁控濺射技術領域，公開了一種布氣裝置及鍍膜設備。本實用新型提出一種布氣裝置及鍍膜設備，其中，布氣裝置包括氣排組件，氣排組件包括至少兩個氣排段，氣排段上設置有多個出氣孔，氣體從出氣孔輸出并朝向靶材，采用分段式布氣能夠避免氣體集中...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜連續生產線，屬于鍍膜設備領域，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內設有固定筒和傳輸底座，固定筒設于真空鍍膜室頂部，傳輸底座設于真空鍍膜室底部，真空鍍膜室底部還設有頂升旋轉部件，頂升旋轉部件與固定筒位置對應，公自轉工件架通...
								
            
							
            
							
						
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								      公開的示例涉及控制于襯底的特征上沉積的含硅膜的生長輪廓。一示例提供了一種執行循環式化學氣相沉積(CVD)/蝕刻處理以控制在包含間隔結構的襯底上沉積的含硅膜的輪廓的方法。每個間隔結構包含頂部場區(top field)和一個或更多個側壁。該方法...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，且公開了一種真空鍍膜設備，包括蒸發機構，蒸發機構頂端設置有鍍膜機構與鍍膜輔助機構，蒸發機構包括一個電控箱，電控箱頂端設置有加工臺，加工臺內設置有鍍膜材料傳輸水路，加工臺對應傳輸水路上方設置有蒸發口，且蒸發口內...
								
            
							
            
							
						
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								      一種真空鍍用治具模具結構，包括一上蓋(100)、一下蓋(200)以及設置于所述上蓋(100)與所述下蓋(200)之間的至少一個中蓋(300)，所述上蓋(100)朝向所述中蓋(300)的一側設置有與所述中蓋(300)上部分相配合的第一承載槽(...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜旋轉裝置，涉及真空鍍膜技術領域。本實用新型包括底座，還包括：所述底座的頂部設置有臺體，所述臺體的頂部設置有真空鍍膜機主體，所述真空鍍膜機主體的前端設置有蓋體，所述真空鍍膜機主體頂部的一側設置有真空泵，所述真空泵的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及鍍膜裝置技術領域，公開了一種離子束輔助的化合物薄膜低缺陷沉積裝置，包括氣相沉積爐本體，氣相沉積爐本體的內部開設有真空腔，真空腔內腔的底部設置有安裝座，安裝座上對稱設置有兩組用于固定蒸發舟的固定機構；本發明通過兩組固定機構、驅動機構...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及磁控濺射技術領域，具體涉及為一種磁控濺射鍍膜裝置，包括底座，所述底座上方固定連接有鍍膜倉，所述鍍膜倉內表面固定安裝有磁控靶，所述鍍膜倉上方設置有蓋板組件，所述蓋板組件包括倉蓋，所述倉蓋底部固定連接有電動推桿，所述電動推桿與所述底座...
								
            
							
            
							
						
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