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            拖動(dòng)滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本發(fā)明涉及表面處理領(lǐng)域，具體為一種球閥球體的表面處理工藝；該表面處理工藝包括：將球閥球體經(jīng)過(guò)預(yù)處理，得到經(jīng)預(yù)處理的球閥球體；將經(jīng)預(yù)處理的球閥球體經(jīng)過(guò)活化，得到經(jīng)活化的球閥球體；配置化學(xué)鍍液，將經(jīng)活化的球閥球體施鍍，得到經(jīng)化學(xué)鍍的球閥球體；再...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及電子連接線加工領(lǐng)域，具體涉及一種加工電子連接線用的鍍錫裝置，包括：加熱裝置和設(shè)置在其頂部的熔錫腔，加熱裝置的兩側(cè)分別連接有矩形框體，熔錫腔的上方設(shè)有可旋轉(zhuǎn)的U形安裝板組件，U形安裝板組件包括U形安裝板體，U形安裝板體內(nèi)腔的底部...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種堆疊式舟載具及管式PECVD設(shè)備，包括：絕緣連接座、第一舟載具和第二舟載具；所述絕緣連接座分別設(shè)置在第一舟載具和第二舟載具的兩端，以用于實(shí)現(xiàn)第一舟載具和第二舟載具沿豎直方向堆疊連接；所述第一舟載具和第二舟載具均采用碳纖維...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及溫度調(diào)控技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種熱鍍鋅智能溫度自適應(yīng)調(diào)控裝置，用于解決現(xiàn)有鍍鋅裝置不易根據(jù)鍍件自動(dòng)適配溫度的問(wèn)題；該裝置包括爐體機(jī)構(gòu)，爐體機(jī)構(gòu)的上部設(shè)置有第一輸送機(jī)構(gòu)和第二輸送機(jī)構(gòu)，第二輸送機(jī)構(gòu)包括兩種輸送狀態(tài)，在第一輸送狀態(tài)下，...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N鋅管在鋅鍋上的引上磁輥，包括機(jī)架，包括入料端和出料端，在出料端設(shè)有鋅液回收槽，在鋅液回收槽上設(shè)有移動(dòng)輥；磁力輥傳送機(jī)構(gòu)，設(shè)置在機(jī)架上并臨近入料端設(shè)置，包括安裝架和設(shè)置在安裝架上的多排磁力輥和風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)的出風(fēng)口朝向磁力輥設(shè)置；抓...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種微半球鍍膜治具，包括定位器、夾具，以及與夾具相連的驅(qū)動(dòng)組件，定位器頂面開(kāi)設(shè)有用于容置微半球的沉臺(tái)孔，沉臺(tái)孔內(nèi)具有與微半球的唇沿面配合的掩膜腔，微半球表面無(wú)需鍍膜的部分伸入掩膜腔以進(jìn)行掩膜，夾具包括頂錐部，頂錐部從所述定位...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及閥桿的氮化領(lǐng)域，尤其涉及一種避免閥桿氮化變形結(jié)構(gòu)。所述避免閥桿氮化變形結(jié)構(gòu)包括氮化爐、鋼絲繩、連接結(jié)構(gòu)和調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，氮化爐內(nèi)部安裝有閥桿，閥桿頂端開(kāi)設(shè)有通孔，氮化爐內(nèi)壁頂端固定連接有橫梁，鋼絲繩一端安裝在橫梁中部，另一端安裝在閥桿的...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)涉及到加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種限位裝置、輸送設(shè)備及磁控濺射傳動(dòng)裝置。該限位裝置包括：第一限位圈和第二限位圈，第一限位圈和第二限位圈用于套設(shè)在傳動(dòng)桿上并分別設(shè)置于傳動(dòng)輪的兩側(cè)，傳動(dòng)輪用于固定套設(shè)于傳動(dòng)桿上；第一限位圈面向傳動(dòng)輪的一...
								
            
							
            
							
						
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								      根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的磁控濺射鍍膜裝置，包括：機(jī)架；真空罩，設(shè)在機(jī)架上，真空罩內(nèi)限定有真空腔；內(nèi)濺射陰極，外表面覆蓋有靶材，當(dāng)磁控濺射鍍膜裝置位于第一狀態(tài)時(shí)，內(nèi)濺射陰極與真空罩相連以用于深入待鍍工件的腔體內(nèi)并通過(guò)磁控濺射對(duì)待鍍工件的內(nèi)壁面鍍...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種進(jìn)氣爐門(mén)結(jié)構(gòu)，包括爐門(mén)板，所述爐門(mén)板一側(cè)設(shè)有進(jìn)氣組件，所述爐門(mén)板另一側(cè)通過(guò)彈性調(diào)節(jié)裝置連接有調(diào)節(jié)板，所述調(diào)節(jié)板連接有用于帶動(dòng)調(diào)節(jié)板和爐門(mén)板移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。本進(jìn)氣爐門(mén)結(jié)構(gòu)，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣組件進(jìn)氣，驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)爐門(mén)板移動(dòng)，實(shí)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種半導(dǎo)體基底反射鏡的激光精準(zhǔn)蒸鍍裝置，包括抽真空箱，所述抽真空箱的內(nèi)壁固定連接有第一隔熱間板，所述抽真空箱的內(nèi)壁固定連接有第二隔熱間板，所述抽真空箱的內(nèi)部底面固定連接有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)的輸出端固定連接有...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型屬于磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種布?xì)庋b置及鍍膜設(shè)備。本實(shí)用新型提出一種布?xì)庋b置及鍍膜設(shè)備，其中，布?xì)庋b置包括氣排組件，氣排組件包括至少兩個(gè)氣排段，氣排段上設(shè)置有多個(gè)出氣孔，氣體從出氣孔輸出并朝向靶材，采用分段式布?xì)饽軌虮苊鈿怏w集中...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜連續(xù)生產(chǎn)線，屬于鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有固定筒和傳輸?shù)鬃潭ㄍ苍O(shè)于真空鍍膜室頂部，傳輸?shù)鬃O(shè)于真空鍍膜室底部，真空鍍膜室底部還設(shè)有頂升旋轉(zhuǎn)部件，頂升旋轉(zhuǎn)部件與固定筒位置對(duì)應(yīng)，公自轉(zhuǎn)工件架通...
								
            
							
            
							
						
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								      公開(kāi)的示例涉及控制于襯底的特征上沉積的含硅膜的生長(zhǎng)輪廓。一示例提供了一種執(zhí)行循環(huán)式化學(xué)氣相沉積(CVD)/蝕刻處理以控制在包含間隔結(jié)構(gòu)的襯底上沉積的含硅膜的輪廓的方法。每個(gè)間隔結(jié)構(gòu)包含頂部場(chǎng)區(qū)(top field)和一個(gè)或更多個(gè)側(cè)壁。該方法...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種真空鍍膜設(shè)備，包括蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，蒸發(fā)機(jī)構(gòu)頂端設(shè)置有鍍膜機(jī)構(gòu)與鍍膜輔助機(jī)構(gòu)，蒸發(fā)機(jī)構(gòu)包括一個(gè)電控箱，電控箱頂端設(shè)置有加工臺(tái)，加工臺(tái)內(nèi)設(shè)置有鍍膜材料傳輸水路，加工臺(tái)對(duì)應(yīng)傳輸水路上方設(shè)置有蒸發(fā)口，且蒸發(fā)口內(nèi)...
								
            
							
            
							
						
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								      一種真空鍍用治具模具結(jié)構(gòu)，包括一上蓋(100)、一下蓋(200)以及設(shè)置于所述上蓋(100)與所述下蓋(200)之間的至少一個(gè)中蓋(300)，所述上蓋(100)朝向所述中蓋(300)的一側(cè)設(shè)置有與所述中蓋(300)上部分相配合的第一承載槽(...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜旋轉(zhuǎn)裝置，涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括底座，還包括：所述底座的頂部設(shè)置有臺(tái)體，所述臺(tái)體的頂部設(shè)置有真空鍍膜機(jī)主體，所述真空鍍膜機(jī)主體的前端設(shè)置有蓋體，所述真空鍍膜機(jī)主體頂部的一側(cè)設(shè)置有真空泵，所述真空泵的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種離子束輔助的化合物薄膜低缺陷沉積裝置，包括氣相沉積爐本體，氣相沉積爐本體的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有真空腔，真空腔內(nèi)腔的底部設(shè)置有安裝座，安裝座上對(duì)稱設(shè)置有兩組用于固定蒸發(fā)舟的固定機(jī)構(gòu)；本發(fā)明通過(guò)兩組固定機(jī)構(gòu)、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及集成光電器件制造技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種集成光電器件反射鏡的電阻熱蒸發(fā)精準(zhǔn)鍍膜設(shè)備，包括底座，所述底座的上表面固定連接有真空箱，所述真空箱的內(nèi)部頂面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第一齒輪，本發(fā)明能夠通過(guò)第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)齒輪傳動(dòng)，帶動(dòng)圓筒及防護(hù)桶轉(zhuǎn)動(dòng)，防護(hù)桶借...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及為一種磁控濺射鍍膜裝置，包括底座，所述底座上方固定連接有鍍膜倉(cāng)，所述鍍膜倉(cāng)內(nèi)表面固定安裝有磁控靶，所述鍍膜倉(cāng)上方設(shè)置有蓋板組件，所述蓋板組件包括倉(cāng)蓋，所述倉(cāng)蓋底部固定連接有電動(dòng)推桿，所述電動(dòng)推桿與所述底座...
								
            
							
            
							
						
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