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								      本實用新型公開了一種化學氣象沉積反應腔的蓋板及化學氣象沉積反應裝置，蓋板包括：蓋板本體以及位于蓋板本體內的冷卻結構；冷卻結構包括冷卻物輸入孔、冷卻物輸出孔以及至少兩個冷卻通道；冷卻物輸入孔和冷卻物輸出孔均位于蓋板遠離化學氣象沉積反應腔一側的...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種用于鹽浴氮化的氣體攪拌用的多氣源供氣面板，包括：一種用于鹽浴氮化的氣體攪拌用的多氣源供氣面板，包括：氮氣供氣組件、空氣供氣組件、以及氧氣供氣組件，所述氮氣供氣組件包括：氮氣供氣管道，設置在所述氮氣供氣管道上的第一氮氣開關...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種蒸發裝置及鍍膜設備，其中鍍膜設備包括蒸發裝置，蒸發裝置包括蒸發組件、過膜通道以及導向組件。蒸發組件包括蒸發池，蒸發池用于承載并蒸發膜料。過膜通道設置在蒸發組件的頂部。導向組件包括第一導向板組和第二導向板組，第一導向板組和...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種激光熔覆頭擋光罩裝置，包括連接座、固定座及前擋光罩；連接座套接于激光熔覆頭上，固定座套接于所述連接座上，所述固定座的側面設置有若干弧形凹槽，所述前擋光罩的內壁上設置有若干弧形凸起，一個弧形凹槽對應一個弧形凸起，弧形凸起插...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及管道涂層領域，具體涉及一種用于地熱管道的耐腐蝕防結垢涂層及其制備方法，該方案選用 Cu、Ni、Co、Cr、Fe、Al、Mn 按特定質量百分比范圍組成的合金粉末作為涂層材料，采用等離子噴涂工藝并配合明確的工藝參數與表面預處理、后處理...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種用于MBE工藝的真空腔系統及其操作方法，具體涉及MBE薄膜生長設備技術領域，包括真空腔體系統和傳送樣系統；真空腔體系統包括通過閘板閥依次連接的快速進樣腔、預處理腔、工藝腔和互聯腔；傳送樣系統包括：安裝在快速進樣腔底部的樣品架...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請提供一種精密金屬掩膜板的缺陷檢測修復方法和系統。其中的缺陷檢測修復方法包括配置至少一個缺陷檢測修復單元；在缺陷檢測修復單元中，配置協同工作的一個自動光學檢測裝置和至少兩個激光修復裝置；在同一個修復單元中，由自動光學檢測裝置執行如下步驟...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實施例提供一種退火設備，涉及退火裝置技術領域，用于解決與基板邊緣位置對應的顯示模組區域在顯示畫面時存在低灰階畫面不均一的技術問題。該退火設備包括退火腔，所述退火腔內沿第一方向間隔設置有至少兩個加熱層，相鄰兩個所述加熱層以及相鄰兩個加熱...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及涂層材料制備技術領域，公開一種疏油防粘附表面的激光制備方法，包括：提供一種包含可交聯有機硅化合物，液體潤滑劑和潤滑劑微膠囊的液態前驅體，并采用脈沖激光一次性掃描輻照，在基底表面同步實現微納結構，構筑有機硅骨架的共價鍵合以及液體潤滑...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種鍍膜裝置及方法，旨在解決現有技術中膜厚均勻性差、顆粒吸附頑固、表面光潔度不足等問題。該裝置包括基座、磁控濺射發生器、導向結構、旋轉機構、超聲機構及驅動機構。旋轉機構驅動試管繞自身軸線旋轉，超聲機構通過變幅桿向試管施加軸向高頻...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型屬于芯片鍍膜技術領域，具體為一種芯片鍍膜夾具，包括底座，所述底座上安裝有進氣機構，所述進氣機構包括進氣臺，所述進氣臺上方安裝有置物機構，所述置物機構包括置物板，所述第一安裝孔內固定安裝有支撐桿，所述置物板與支撐桿固定連接，所述置物...
								
            
							
            
							
						
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								      一種帶涂層的金屬箔，其中，上述涂層的厚度為5nm～1000nm，在利用X射線光電子能譜法得到的C1s能譜中，在280eV～292eV檢測到的源自各鍵的各峰的總面積中源自C?O鍵的峰面積所占的比例(RC?O)為10%～50%。一種覆金屬層疊板...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種基于雙軌道約束的磁控濺射磁鐵變軌跡運動裝置，包括限位機構、安裝塊、連桿、連橋、第一旋轉驅動機構和第二旋轉驅動機構，限位機構包括交叉設置的第一軌道和第二軌道，連橋可轉動地設置在軌道的交點處，連橋上設有滑槽，安裝塊滑動設置于滑槽...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及沉積裝置技術領域，尤其為一種鉆頭硬質涂層的快速沉積裝置及其使用方法，包括沉積裝置組件，沉積裝置組件內側安裝有支架組件，支架組件內側插接有鉆頭本體，沉積裝置組件靠近下端的位置固定連接有裝配保溫箱組件，裝配保溫箱組件內側安裝有推送組件...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明實施例提供了一種布拉格光柵制作方法，包括：對基底上的過渡材料進行刻蝕，以在基底上形成周期性起伏結構，通過化學氣相沉積，在周期性起伏結構上生成上包層，通過化學氣相沉積，在上包層上生成光柵材料，以形成布拉格光柵。通過本發明，解決了相關技術...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種基座及氣相沉積設備。基座包括載體和轉接件。載體設有若干凹穴以放置襯底，內部設有與各凹穴連通的連通氣道；載體中部設有連接件，各連通氣道延伸至連接件內并貫穿連接件的底端面與外部相通；轉接件具有沿轉接件軸向相對的第一端面和第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種基于再生添加劑的含銅蝕刻廢液循環再生方法，包括以下步驟，S1、配制復合再生劑母液，S2、配制蝕刻活化劑，S3、電解催化再生處理，S4、梯度雜質去除，S5、蝕刻性能活化，S6、回收復配；通過在溴化鉀催化雙氧水顯著提升氧化效率，...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種可調式微粉機，屬于微粉機技術領域，包括粉碎箱，所述粉碎箱內腔的底部設置有磨環槽，所述粉碎箱的底部設置有研磨機構，所述粉碎箱的頂部固定套接有排粉管，所述排粉管上設置有過篩機構，所述粉碎箱的側部固定連接有進料管。本實用新型中...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了膜厚傳感器及膜厚實時監測系統，該膜厚傳感器包括電路板，支撐塊，以及晶振探頭；晶振探頭包括支撐外環，設于支撐外環中的支撐內環，以及嵌設于支撐內環和支撐外環中的晶振片，晶振片的底部通過導電彈簧與電路板電性連接；支撐外環正對濺射陰極設...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開一種反應腔的蓋體組件及晶圓處理裝置，該蓋體組件包括：用于密封地蓋設于開口處的蓋體，在蓋體蓋設于開口處時，反應腔可被配置為真空狀態；蓋體中貫穿設置有與反應腔連通的進氣孔，進氣孔用于使空氣進入處于真空狀態的反應腔；以及，與進氣孔連通的...
								
            
							
            
							
						
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