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          攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種叉車電控硬件冗余系統(tǒng),涉及叉車控制領(lǐng)域;包括:主控模塊,實(shí)時(shí)處理駕駛指令與傳感器數(shù)據(jù),生成執(zhí)行機(jī)構(gòu)控制信號(hào),同時(shí)通過(guò)高速總線向備用模塊同步參數(shù);備用控制模塊,其通過(guò)動(dòng)態(tài)熱同步方法在主系統(tǒng)失效時(shí)實(shí)現(xiàn)無(wú)感接管控制權(quán);多通道故障檢...
          • 本發(fā)明提供了一種獲取曝光中熱補(bǔ)償?shù)姆椒ā⒂糜谄毓獾臒嵫a(bǔ)償系統(tǒng),所述方法包括獲取前一批次晶圓和當(dāng)前批次晶圓的產(chǎn)品信息和曝光時(shí)的工藝信息;執(zhí)行第一判斷、第二判斷、第三判斷及第四判斷;若第一判斷、第二判斷、第三判斷及第四判斷中任一個(gè)的判斷結(jié)果為否...
          • 本實(shí)用新型提出一種具有尺寸切換結(jié)構(gòu)的光刻機(jī)掩膜版夾緊定位機(jī)構(gòu),其包括支撐裝配組件、橫向定位組件、縱向定位組件、夾緊驅(qū)動(dòng)組件、雙向定位組件及吸合定位組件,夾緊定位機(jī)構(gòu)的橫向定位組件和縱向定位組件可分別沿橫向和縱向孔眼調(diào)節(jié)安裝位置,夾緊驅(qū)動(dòng)組件...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種投影屏幕和投影系統(tǒng),包括:表面功能層、菲涅爾透鏡層和位于菲涅爾透鏡層的透鏡單元表面上的共振層,共振層采用單層薄膜,可以對(duì)投影設(shè)備出射的投影光線進(jìn)行選擇性反射,而對(duì)其它波段的光線反射率大幅降低,由此可以顯著提高投影圖像的對(duì)比度...
          • 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體光學(xué)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,且公開(kāi)了高精度手動(dòng)撓性定位機(jī)構(gòu),包括底板,所述底板兩側(cè)均設(shè)置有多個(gè)螺釘一,且底板上設(shè)置有大理石平臺(tái),所述底板上固定連接有兩個(gè)導(dǎo)軌底座,且導(dǎo)軌底座上均固定連接有導(dǎo)軌,兩個(gè)所述導(dǎo)軌上設(shè)置有同一個(gè)照明支架,且...
          • 提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)由碳納米管制成并且透射率的面內(nèi)均一性優(yōu)異的防護(hù)膜的技術(shù)。防護(hù)膜(12)包括:分別沿著第1方向(D1)延伸并且沿著徑向排列的多個(gè)第1碳納米管(1200a)、以及分別沿著與所述第1方向(D1)交叉的第2方向(D2)延伸并且沿著徑...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了溫差能發(fā)電系統(tǒng)海水舉升裝置,包括支撐平臺(tái)和舉升泵,支撐平臺(tái)上表面設(shè)置有懸掛組件,懸掛組件的下端通過(guò)球型接頭與處于最上端的第一個(gè)舉升立管單根連通;最上端的第一個(gè)舉升立管單根外圓周上還安裝有張緊組件和伸縮組件;第一個(gè)舉升立管單根...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種多通道激光直寫(xiě)控制系統(tǒng)及方法,本發(fā)明涉及激光直寫(xiě)技術(shù)領(lǐng)域。該一種多通道激光直寫(xiě)控制系統(tǒng)及方法,通過(guò)驅(qū)動(dòng)桿受到凸輪驅(qū)動(dòng)后帶動(dòng)多個(gè)排風(fēng)管繞著其轉(zhuǎn)軸向下轉(zhuǎn)動(dòng),驅(qū)動(dòng)桿底端的導(dǎo)向輪沿著升降板頂部滾動(dòng)的同時(shí)下壓升降板,當(dāng)凸輪轉(zhuǎn)過(guò)一定角度...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種應(yīng)用于消費(fèi)化債系統(tǒng)的債務(wù)確認(rèn)方法,包括有第一階段、接收獲取債務(wù)數(shù)據(jù)請(qǐng)求,解析得到用戶賬號(hào)信息,并根據(jù)用戶賬號(hào)信息查詢并反饋關(guān)聯(lián)的所有債務(wù)數(shù)據(jù),債務(wù)數(shù)據(jù)包括已簽署確認(rèn)債務(wù)數(shù)據(jù)和未簽署確認(rèn)債務(wù)數(shù)據(jù);第二階段、查詢債務(wù)數(shù)據(jù)中的未簽...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種攝影控光裝置,包括:第一控光箱體,由遮光材質(zhì)制成,其內(nèi)部具有反光面;第二控光箱體,由透光材質(zhì)制成;第一控光箱體和第二控光箱體拼合形成空腔,該空腔具有用于連接光源的安裝端,且第一控光箱體和第二控光箱體位于安裝端的徑向兩側(cè)。...
          • 本實(shí)用新型提供一種應(yīng)用于光頭底板的散熱機(jī)構(gòu)及其曝光機(jī),包括水冷機(jī);顯露于光頭底板表面的接頭組件,所述接頭組件與所述水冷機(jī)連通;以及分布在光頭底板內(nèi)部的水道,所述光頭底板表面安裝有光頭組,所述水道貫穿所述光頭底板且能夠覆蓋所述光頭組,以帶走所...
          • 一種光致抗蝕劑圖案形成方法,包括:(i)在支承體上使用光致抗蝕劑組合物形成光致抗蝕劑膜的工序;(ii)將所述光致抗蝕劑膜曝光的工序;及(iii)將所述曝光后的光致抗蝕劑膜顯影而形成光致抗蝕劑圖案的工序,其特征在于,所述抗蝕劑組合物含有:對(duì)顯...
          • 本發(fā)明涉及電子器件技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種漸變式電極薄膜鈮酸鋰調(diào)制器,包括襯底層、低折射率下蓋層、薄膜鈮酸鋰層、電極結(jié)構(gòu)和低折射率上蓋層,本發(fā)明實(shí)現(xiàn)微波與光波速度自然匹配,無(wú)需額外微結(jié)構(gòu)或增厚金屬,顯著拓寬電光帶寬;薄膜鈮酸鋰的高重疊因子降低...
          • 本實(shí)用新型提供一種用于紫外光刻機(jī)的光刻板晶圓找平結(jié)構(gòu),涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,包括工作臺(tái)的頂端安裝有光刻機(jī)本體;平衡組件;平衡組件包括固定連接在工作臺(tái)內(nèi)部底端四角的立柱,每?jī)蓚€(gè)立柱的頂端設(shè)置有連桿,連桿的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有滑槽,兩個(gè)連桿的相近一端轉(zhuǎn)動(dòng)連...
          • 一種納米壓印模板、制備方法及采用其的納米壓印設(shè)備,屬于納米壓印技術(shù)領(lǐng)域。所述納米壓印模板包括襯底和形成在襯底下表面上的、具有凹凸結(jié)構(gòu)的待轉(zhuǎn)印微納米結(jié)構(gòu);其中,所述納米壓印模板的總厚度為0.3~2.0毫米。本申請(qǐng)的納米壓印模板通過(guò)減薄厚度,提...
          • 本發(fā)明提供了一種汽輪發(fā)電機(jī)組ETS三重化冗余保護(hù)系統(tǒng)、方法及介質(zhì),系統(tǒng)包括:信號(hào)采集層配置三重化傳感器組,信號(hào)采集層的傳感器、接線盒均配備伴熱保溫組件,信號(hào)電纜采用耐寒屏蔽電纜;邏輯運(yùn)算層以硬冗余PLC為核心控制器,將控制程序劃分為供熱保障...
          • 本實(shí)用新型提出一種用于光刻機(jī)晶圓定位的成像對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu),其包括承載裝配組件、圖像進(jìn)光組件、進(jìn)出分光組件、光源進(jìn)光組件、圖像出光組件、變焦切換組件及感光成像組件,該對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)采用光源鏡頭、折向鏡組、分光棱鏡及圖像鏡頭向晶圓標(biāo)記傳輸光源光線,對(duì)其進(jìn)行...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種補(bǔ)光燈,包括燈體和兩個(gè)遮光組件,燈體包括手持部和照明部,兩個(gè)遮光組件分別設(shè)于照明部的兩側(cè),遮光組件包括調(diào)節(jié)支座、座板和多個(gè)連接板,調(diào)節(jié)支座固定于照明部上,調(diào)節(jié)支座上設(shè)有調(diào)節(jié)面,座板的上下兩端側(cè)部設(shè)有安裝部,安裝部上設(shè)有第一轉(zhuǎn)...
          • 本發(fā)明屬于檔案修復(fù)保護(hù)技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種霉變黑白照相底片霉斑掩蔽及影像恢復(fù)方法和應(yīng)用,包括以下步驟:S1、對(duì)霉變黑白照相底片進(jìn)行吹塵、清洗和晾干預(yù)處理;S2、將預(yù)處理后的霉變黑白照相底片鋪在玻璃板上,然后將甲基硅油滴在霉變黑白照相底片的一側(cè)...
          • 本披露公開(kāi)了一種用于對(duì)晶圓進(jìn)行失焦補(bǔ)償?shù)姆椒ā雽?dǎo)體器件及相關(guān)產(chǎn)品。該方法包括:確定襯底產(chǎn)品的參考聚焦深度;根據(jù)平整的襯底樣品在參考聚焦深度和浮動(dòng)聚焦深度下光刻形成的關(guān)鍵尺寸,構(gòu)建關(guān)鍵尺寸與變焦幅度的變化曲線;其中,浮動(dòng)聚焦深度為在參考聚焦...
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