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            拖動(dòng)滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體光學(xué)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，且公開了高精度手動(dòng)撓性定位機(jī)構(gòu)，包括底板，所述底板兩側(cè)均設(shè)置有多個(gè)螺釘一，且底板上設(shè)置有大理石平臺(tái)，所述底板上固定連接有兩個(gè)導(dǎo)軌底座，且導(dǎo)軌底座上均固定連接有導(dǎo)軌，兩個(gè)所述導(dǎo)軌上設(shè)置有同一個(gè)照明支架，且...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提供一種用于紫外光刻機(jī)的光刻板晶圓找平結(jié)構(gòu)，涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，包括工作臺(tái)的頂端安裝有光刻機(jī)本體；平衡組件；平衡組件包括固定連接在工作臺(tái)內(nèi)部底端四角的立柱，每兩個(gè)立柱的頂端設(shè)置有連桿，連桿的內(nèi)部開設(shè)有滑槽，兩個(gè)連桿的相近一端轉(zhuǎn)動(dòng)連...
								
            
							
            
							
						
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								      一種納米壓印模板、制備方法及采用其的納米壓印設(shè)備，屬于納米壓印技術(shù)領(lǐng)域。所述納米壓印模板包括襯底和形成在襯底下表面上的、具有凹凸結(jié)構(gòu)的待轉(zhuǎn)印微納米結(jié)構(gòu)；其中，所述納米壓印模板的總厚度為0.3～2.0毫米。本申請(qǐng)的納米壓印模板通過減薄厚度，提...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于消費(fèi)化債系統(tǒng)的債務(wù)確認(rèn)方法，包括有第一階段、接收獲取債務(wù)數(shù)據(jù)請(qǐng)求，解析得到用戶賬號(hào)信息，并根據(jù)用戶賬號(hào)信息查詢并反饋關(guān)聯(lián)的所有債務(wù)數(shù)據(jù)，債務(wù)數(shù)據(jù)包括已簽署確認(rèn)債務(wù)數(shù)據(jù)和未簽署確認(rèn)債務(wù)數(shù)據(jù)；第二階段、查詢債務(wù)數(shù)據(jù)中的未簽...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種攝影控光裝置，包括：第一控光箱體，由遮光材質(zhì)制成，其內(nèi)部具有反光面；第二控光箱體，由透光材質(zhì)制成；第一控光箱體和第二控光箱體拼合形成空腔，該空腔具有用于連接光源的安裝端，且第一控光箱體和第二控光箱體位于安裝端的徑向兩側(cè)。...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提供一種應(yīng)用于光頭底板的散熱機(jī)構(gòu)及其曝光機(jī)，包括水冷機(jī)；顯露于光頭底板表面的接頭組件，所述接頭組件與所述水冷機(jī)連通；以及分布在光頭底板內(nèi)部的水道，所述光頭底板表面安裝有光頭組，所述水道貫穿所述光頭底板且能夠覆蓋所述光頭組，以帶走所...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了溫差能發(fā)電系統(tǒng)海水舉升裝置，包括支撐平臺(tái)和舉升泵，支撐平臺(tái)上表面設(shè)置有懸掛組件，懸掛組件的下端通過球型接頭與處于最上端的第一個(gè)舉升立管單根連通；最上端的第一個(gè)舉升立管單根外圓周上還安裝有張緊組件和伸縮組件；第一個(gè)舉升立管單根...
								
            
							
            
							
						
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								      提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)由碳納米管制成并且透射率的面內(nèi)均一性優(yōu)異的防護(hù)膜的技術(shù)。防護(hù)膜(12)包括：分別沿著第1方向(D1)延伸并且沿著徑向排列的多個(gè)第1碳納米管(1200a)、以及分別沿著與所述第1方向(D1)交叉的第2方向(D2)延伸并且沿著徑...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種多通道激光直寫控制系統(tǒng)及方法，本發(fā)明涉及激光直寫技術(shù)領(lǐng)域。該一種多通道激光直寫控制系統(tǒng)及方法，通過驅(qū)動(dòng)桿受到凸輪驅(qū)動(dòng)后帶動(dòng)多個(gè)排風(fēng)管繞著其轉(zhuǎn)軸向下轉(zhuǎn)動(dòng)，驅(qū)動(dòng)桿底端的導(dǎo)向輪沿著升降板頂部滾動(dòng)的同時(shí)下壓升降板，當(dāng)凸輪轉(zhuǎn)過一定角度...
								
            
							
            
							
						
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								      一種光致抗蝕劑圖案形成方法，包括：(i)在支承體上使用光致抗蝕劑組合物形成光致抗蝕劑膜的工序；(ii)將所述光致抗蝕劑膜曝光的工序；及(iii)將所述曝光后的光致抗蝕劑膜顯影而形成光致抗蝕劑圖案的工序，其特征在于，所述抗蝕劑組合物含有：對(duì)顯...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及電子器件技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種漸變式電極薄膜鈮酸鋰調(diào)制器，包括襯底層、低折射率下蓋層、薄膜鈮酸鋰層、電極結(jié)構(gòu)和低折射率上蓋層，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)微波與光波速度自然匹配，無需額外微結(jié)構(gòu)或增厚金屬，顯著拓寬電光帶寬；薄膜鈮酸鋰的高重疊因子降低...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提出一種用于光刻機(jī)晶圓定位的成像對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，其包括承載裝配組件、圖像進(jìn)光組件、進(jìn)出分光組件、光源進(jìn)光組件、圖像出光組件、變焦切換組件及感光成像組件，該對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)采用光源鏡頭、折向鏡組、分光棱鏡及圖像鏡頭向晶圓標(biāo)記傳輸光源光線，對(duì)其進(jìn)行...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種汽輪發(fā)電機(jī)組ETS三重化冗余保護(hù)系統(tǒng)、方法及介質(zhì)，系統(tǒng)包括：信號(hào)采集層配置三重化傳感器組，信號(hào)采集層的傳感器、接線盒均配備伴熱保溫組件，信號(hào)電纜采用耐寒屏蔽電纜；邏輯運(yùn)算層以硬冗余PLC為核心控制器，將控制程序劃分為供熱保障...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于檔案修復(fù)保護(hù)技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種霉變黑白照相底片霉斑掩蔽及影像恢復(fù)方法和應(yīng)用，包括以下步驟：S1、對(duì)霉變黑白照相底片進(jìn)行吹塵、清洗和晾干預(yù)處理；S2、將預(yù)處理后的霉變黑白照相底片鋪在玻璃板上，然后將甲基硅油滴在霉變黑白照相底片的一側(cè)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種補(bǔ)光燈，包括燈體和兩個(gè)遮光組件，燈體包括手持部和照明部，兩個(gè)遮光組件分別設(shè)于照明部的兩側(cè)，遮光組件包括調(diào)節(jié)支座、座板和多個(gè)連接板，調(diào)節(jié)支座固定于照明部上，調(diào)節(jié)支座上設(shè)有調(diào)節(jié)面，座板的上下兩端側(cè)部設(shè)有安裝部，安裝部上設(shè)有第一轉(zhuǎn)...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種堆料設(shè)備，特別涉及一種碼垛裝置，解決了碼垛設(shè)計(jì)問題。包括若干連接桿組成的框架體，所述框架體底部還設(shè)有底桿和料板，所述料板掛靠在底桿上固定，所述框架體上又設(shè)有承架桿以及驅(qū)動(dòng)承架桿上下移動(dòng)的提升機(jī)構(gòu)，所述承架桿上又設(shè)有限位滑動(dòng)...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)公開了一種鏡片組件及光學(xué)引擎，屬于投影顯示技術(shù)領(lǐng)域。鏡片組件包括：支架、光學(xué)鏡片、轉(zhuǎn)動(dòng)部和固定部。支架通過轉(zhuǎn)動(dòng)部與殼體連接后，能夠繞第一軸線或第二軸線獨(dú)立轉(zhuǎn)動(dòng)，并且在完成角度調(diào)整后，固定部可以直接與殼體固定連接，從而使得安裝在支架上的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于光刻膠技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯影去膠可堿溶的光刻膠的制備方法。本發(fā)明旨在解決現(xiàn)有的光刻膠無法在顯影和去膠兩段工藝中實(shí)現(xiàn)完全堿溶的問題。本發(fā)明通過微乳液聚合將羧基填料前體制備成羧酸基填料，采用偶聯(lián)劑改性酚基填料前體獲得酚基填料，兩者...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種自適應(yīng)節(jié)能重力發(fā)電裝置，涉及重力發(fā)電相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，該自適應(yīng)節(jié)能重力發(fā)電裝置，包括底座及轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于底座上的主軸，主軸兩端均同軸固定有支撐盤；兩個(gè)支撐盤之間等距固定有至少六個(gè)隔板，相鄰兩個(gè)隔板之間滑動(dòng)安裝有配重塊；一號(hào)安裝前，開...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及勢(shì)能裝置的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彈性勢(shì)能應(yīng)用系統(tǒng)，包括儲(chǔ)能單元、釋能單元；儲(chǔ)能單元包括第一儲(chǔ)能棒、儲(chǔ)能支架、儲(chǔ)能齒條機(jī)構(gòu)、能量輸入裝置；第一儲(chǔ)能棒放置在儲(chǔ)能支架中，第一儲(chǔ)能棒一端與儲(chǔ)能齒條機(jī)構(gòu)觸接，儲(chǔ)能齒條機(jī)構(gòu)連接能量輸入裝置...
								
            
							
            
							
						
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